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設備尺寸：
設備名稱 OTFC-1550CBI/DBI
真空室 SUS304, φ1550mm×1800mm (H)
工件架 φ1400mm
工件架轉速 10rpm to 30rpm(可變)
光學膜厚控制 HOM2-R-VIS350A光學膜厚監控儀
波長范圍：350nm to 1100nm
反射式/透射式
水晶式膜厚計 XTC/3+6點式水晶傳感器
蒸發源 電子槍2套
離子源 17cmRF離子源
機械性能：
排氣系統 機械泵+2個擴散泵+Polycold（或2個冷凝泵）
達到壓力 7.0×10-5 Pa 以下
排氣時間 15分（大氣壓～1.3×10-3 Pa)
基板溫度 ：350℃
工作條件：
設備尺寸 約5500mm(W)×7200mm(D)×3700mm(H)
電源 3相,200v,50/60Hz, 約120KVA
水流量 180升/分以上
空氣壓力 0.5MPa以上
重量 約10000kg
適用于L ED用光學薄膜、ITO膜、 反射防止膜、超多層薄膜等各種光學薄膜形成裝置
