井岡山半導體超純水設備廠家

 超純水設備新系統投入正常運行前，應對膜元件進行徹底沖洗，才能保證系統操作參數達到設計參數，系統產水水質和產水量達到設計目標，同時防止因超極限的進水流量和壓力或水錘對膜的損壞。系統開機啟動前，在確保原水不會進入元件內的前提下，按開機前檢查事項的內容逐項檢查，徹底沖洗原水預處理部分，沖掉雜質和其它污染物，防止進入高壓泵和膜元件，特別應該檢測預處理出水SDI15值是否合格，進水不含余氯等氧化劑；檢查所有閥門并保證所有設置正確，系統產水排放閥、進水控制閥和濃水控制閥必須完全打開；用低壓、低流量合格預處理出水排走膜元件內和壓力容器內的空氣，沖洗壓力為0.2~0.4MPa(30~60psi),每支4英寸壓力容器沖洗流量為0.6~3.0m/h,每支8英寸壓力容器沖洗流量為2.4~12.0m/h,沖洗過程中的所有產水和濃水均應排放至下水道。在沖洗操作中，檢查所有閥門和管道連接處是否有滲漏點，緊固或修補漏水點；安裝了濕膜的系統至少沖洗30分鐘之后關閉膜進水控制閥。安裝了干膜的系統，應連續低壓沖洗6小時以上或先沖洗1~2小時，浸泡過夜后再沖洗1小時左右。在低壓低流量沖洗期間，不允許在預處理部分投加阻垢劑。反滲透RO出水（EDI進水）一般為2-30us（電導率），根據不同需要，超純水或去離子水一般電阻為2-15MΩ/CM。井岡山半導體超純水設備廠家

       RO污染癥狀是什么？反滲透系統發生污染后，其一般癥狀如下。系統進水與濃水間壓降增加。反滲透進水壓力發生變化。標準化后的產水流量變化。標準化后的鹽透過率發生變化。如何減少故障和降低反滲透清洗頻率？減少故障和降低反滲透清洗頻率，應該采取以下措施。在取得水質完全分析的基礎上設計反滲透系統。在進行設計前確定RO進水的SDI值。如果進水水質變化，需要做出相應的設計調整。必須保證足夠的預處理。選擇正確的膜元件。選擇比較保守的水通量。選擇合理的水回收率。設計足夠的橫向流速及濃水流速。對運行數據進行標準化。什么時候需要化學清洗？污染物的去除可通過化學清洗和物理沖洗來實現，有時也可通過改變運行條件來實現，作為一般的原則。發生下列情形應進行清洗：在正常壓力下如產品水流量降至正常值的85%~90%。為了維持正常的產品水流量，經溫度校正后的給水壓力增加10%~15%。產品水質降低10%~15%，鹽透過率增加10%~15%。使用壓力增加10%~15%。RO各段間的壓差增加明顯。井岡山半導體超純水設備廠家

       超純水設備預處理的多介質過濾是指以石英砂、石榴石或無煙煤等為介質，使水在重力或壓力下通過由這些介質構成的床層，而水中的的顆粒污染物質則被介質阻截，從而達到與水分離的過程。粒狀介質過濾基于“過濾－澄清”的工作過程去除水中的顆粒懸浮物、雜質和膠體。水處理中常見的過濾類型有順流單濾料過濾及逆流過濾等。為提高介質過濾的性能，通常可以采用以下幾種方法：采用多種介質分層過濾，對于下向流過濾，常用從上到下的介質層排列為無煙煤、石英砂和粒徑層級的鵝卵石，這種過濾形式能增大過濾流速，而且過濾器的效能也會得到有效的提升。在過濾單元前投加化學絮凝劑，水與混凝劑在流經砂柱縫隙的過程中反復碰撞進行混凝、反應，當生成的絮狀體達到一定體積后被截留在砂柱空隙之中，這些被截留的絮狀體進—步吸附所流過水中的細小礬花，使水質得到澄清，運行至一定時候，根據進出口壓差的變化進行反向的沖洗，或可以配合壓縮空氣進行水和氣體混合反沖洗，可將絮凝污染物排出體外，達到沖洗干凈濾料，這樣過濾器就可以恢復正常運行狀態。超純水一般是指電阻率達到18MΩ*cm（25℃）的水。井岡山半導體超純水設備廠家