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◆配套半導體激光設備。半導體激光設備由于其特殊結構，對水質要求較高。本系列冷卻水循環(huán)機獨有的水質凈化系統(tǒng)，可以過濾固體顆粒物、選配去離子裝置、露點檢測裝置等，更符合半導體激光器的需要。
◆配套真空設備。此類冷卻水循環(huán)機也符合高品質真空設備的需求，如分子泵、小型真空鍍膜機等。
◆配套醫(yī)療激光設備。此類冷卻水循環(huán)機獨有的水質處理特點，使其成為醫(yī)療激光設備配套的理想選擇配套實驗室設備。本系列冷卻水循環(huán)機也廣泛應用于原子吸收光譜分析儀、發(fā)酵裝置、反應釜、電泳儀等 。
主要特征:
●原裝進口壓縮機，效率高。
●加裝腳輪，移動更方便。
●輕觸式按鍵，便于操作。
●備有下放水口，方便更新介質。
●帶參數記憶、來電自恢復功能。
●內膽為不銹鋼，清潔衛(wèi)生，美觀耐腐蝕。
●側進風 側排風，轉角圓化設計，防止意外傷害。
●智能PID精確控溫，精度可達±0.1℃。
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型 號 |
溫度范圍 (℃) |
液槽容積(L) |
最大流量(L/min) |
循環(huán)方式 |
內膽尺寸 |
最高揚程(M) |
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電源要求 |
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T-05 |
－5～室溫 |
5 |
20 |
外循環(huán) |
∮20×20 |
10 |
800 |
220V 50HZ |
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T-08 |
8 |
20 |
∮25×18 |
10 |
900 | |||
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T-10 |
10 |
20 |
∮25×25 |
10 |
1200 | |||
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T-16 |
16 |
20 |
∮30×24 |
10 |
1600 | |||
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T-20 |
20 |
20 |
∮20×20 |
10 |
2000 | |||
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T-30 |
30 |
35 |
∮30×30 |
18 |
2600 | |||
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T-50 |
50 |
120 |
∮40×42 |
8.6 |
5600 |
380V 50HZ | ||
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T-80 |
80 |
120 |
∮48×45 |
8.6 |
7900 | |||
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T-100 |
100 |
120 |
∮50×50 |
8.6 |
11000 |
