黑龍江WA-R/N電離釋放型動態(tài)水處理器廠家 電離釋放型動態(tài)水處理器價格規(guī)格
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電離釋放型動態(tài)水處理器 |
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黑龍江WA-R/N電離釋放型動態(tài)水處理器廠家電話直銷批發(fā)特價選型原理作用應(yīng)用范圍特點材質(zhì)規(guī)格參數(shù) |
一、使用動態(tài)離子群水處理機組（電離釋放型動態(tài)水處理系統(tǒng)）的幾個理由
傳統(tǒng)處理循環(huán)冷卻水的方法主要是加入化學(xué)藥品來抑制微生物生長和結(jié)垢，但因水中藥品和無機鹽隨水的蒸發(fā)而濃度增加，這樣必須排放部分含藥和無機鹽的冷卻水，同時及時補充清潔水。傳統(tǒng)處理方法帶來的問題：系統(tǒng)用水量增加和大量排水，間接導(dǎo)致水費增加；微生物的抗藥性，要求及時地、適時地改變藥品；盡管如此，結(jié)垢問題、生物膜，軍團菌三大問題還是不能徹底解決。
由冷卻塔等設(shè)備形成的循環(huán)冷卻水系統(tǒng)是軍團菌容易生存、繁殖的場所之一，同時可借助冷卻塔冷卻風(fēng)機，將軍團菌散布至都市各個角落，對人體產(chǎn)生極大的危害之隱患。
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二、圖例說明傳統(tǒng)水處理與HP離子群
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圖1 沒處理過 |
圖2 傳統(tǒng)處理過 |
圖3 離子群處理過 |
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從圖中我們明顯的看出離子群的使用效果，下面我們詳細的分析一下循環(huán)冷卻水中的各種問題及處理方案。
1、循環(huán)冷卻水系統(tǒng)中管道內(nèi)外表面結(jié)垢的主要成分是鈣鹽與鎂鹽，它們的溶解度隨溫度的增高而降低，這類鹽就會沉積在加熱表面上，參見圖1。
表1：結(jié)垢的厚度與熱效的關(guān)系
| 結(jié)垢厚度（mm） |
0.15 |
0.3 |
0.61 |
0.84 |
1.22 |
| 熱效損失（%） |
5.3 |
10.8 |
21.5 |
32.2 |
43.0 |
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2、冷卻循環(huán)水中的生物膜
循環(huán)冷卻水適宜的溫度，大量不清潔的空氣，以及被太陽直射開放的集水池等諸多條件，均有利于各種微生物的生存與繁殖。
大量的實地實驗證明，清潔的換熱器管道內(nèi)外表面是不易形成積垢的，無機物沉淀后的垢質(zhì)是一種疏松的粉末，很容易被水流沖走。但微生物一旦生成，繼而產(chǎn)生生物膜，無機物沉淀與生物膜結(jié)合催生的聚合物，將會很難處理。
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3 冷卻循環(huán)水中的軍團菌
軍團菌是一種菌種的總稱，屬革蘭氏陰性，嗜氧，干狀菌，其大小約為2～5×0.3～0.9微米，能隨水氣、水滴進入人體呼吸道而寄生肺組織細胞內(nèi)。
人們一旦被軍團菌所感染，一種較輕的軍團菌叫“傍帝亞克病”，病人類似重感冒，一般不會轉(zhuǎn)成肺炎，只需對癥下藥，通常7～10天內(nèi)可治愈；另一種被稱為“嗜肺軍團病”，感染潛伏期2～10天，病情發(fā)作呈現(xiàn)典型的肺炎病癥。
1987年北京首次發(fā)現(xiàn)軍團病以后，我國已將其納入傳染病防治名單。
軍團菌普遍存在于水環(huán)境中，其存活、繁殖的溫度條件是20～58℃（最佳35～46℃）
表2：幾種微生物細菌的世代期
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| 微生物名稱 |
世代時間（分鐘） |
| 蠟狀芽孢桿菌 |
18 |
| 覃狀芽孢桿菌 |
28 |
| 嗜熱芽孢桿菌 |
13.8 |
| 巨大芽孢桿菌 |
32 |
| 假單胞桿菌 |
9.8 |
| 嗜酸乳酸菌 |
66-90 |
| 乳鏈球菌 |
26 |
| 小球菌 |
8.5 |
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三、循環(huán)冷卻水質(zhì)穩(wěn)定性判斷
1、飽和指數(shù)法：IL=PHe-PHs
式中IL-飽和指數(shù)（朗格利爾指數(shù)）
熱阻為傳熱系數(shù)的倒數(shù)。
PHe-水的實例PH值；
PHs-水的碳酸鈣飽和平衡時的PH值；
(1)當(dāng)IL=PHe-PHs＞0時，水中的碳酸鈣處于過飽和狀態(tài)，有結(jié)垢傾向。
(2)當(dāng)IL=PHe-PHs=0時，水中的碳酸鈣剛好處于平衡狀態(tài)，不腐蝕、不結(jié)垢。
(3)當(dāng)IL=PHe-PHs＜0時，水中CO2過飽和，有腐蝕傾向。
2、穩(wěn)當(dāng)指數(shù)法： IL=2PHs-PHe
3、臨界PH值法；
4、用試驗方法測得剛剛出現(xiàn)結(jié)垢時的水的PH值，稱為臨界PH值，用PHc表示。
動態(tài)離子群控制：PH值 電導(dǎo)率 濁度 鈣離子 鎂離子 軍團菌 微生物
氯離子 總硬度 鋅離子 總鐵離子 正磷 總磷
離子群的簡寫：Cooperate
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四、動態(tài)離子群的控制原理
在噴淋式冷卻塔中，軍團菌最易繁殖。軍團菌也是一種非典型肺炎病菌，能在25~42℃水溫下迅速繁殖，這種病菌通常存在于空調(diào)冷卻塔，加濕器和冷熱水管道中，由飛灑的水滴和灰塵攜帶，通過建筑物的通風(fēng)系統(tǒng)和空調(diào)的新風(fēng)系統(tǒng)進入室內(nèi)。2006 年2 月10 衛(wèi)生部發(fā)布的《公共場所集中空調(diào)通風(fēng)系統(tǒng)衛(wèi)生管理辦法》明確規(guī)定: 空調(diào)系統(tǒng)冷卻水、冷凝水不得檢出軍團菌。
磷酸鹽和聚合物類阻垢劑
冷卻水系統(tǒng)在水高濃縮倍數(shù)下進行，由于磷酸鹽會大量的附著在金屬的表面上，反而引起結(jié)垢的危害，并且，聚磷酸鹽會水解生成正磷酸鹽，生成磷酸鹽垢。后有磷酸鹽和聚合物類阻垢劑的復(fù)合藥劑，即使冷卻水被高度濃縮，仍能充分發(fā)揮緩蝕和阻垢效果。
1.光催化劑的主要成分是納米級的二氧化鈦，它吸收陽光中的紫外線后，可形成活性氧類的超氧化物，破壞病毒所寄宿細胞的細胞膜，凝固病毒的蛋白質(zhì)，抑制病毒的活性和細菌的繁殖，殺菌能力達99.9%。
2.氧化性殺菌劑通常為強氧化劑，能夠氧化微生物體內(nèi)起代謝作用的酶，從而殺滅微生物。氧化性殺菌劑對所有的微生物都有良好的殺滅能力。
3.非氧化性殺菌劑是以致毒劑作用于微生物，破壞微生物的新陳代謝或分裂細胞壁。
4.剝離劑在冷卻水中使用微生物剝離劑，他們不能直接殺死微生物，但是可以將微生物從系統(tǒng)中剝離下來，被沖走或由殺菌劑將其殺滅。最主要的特點，剝離劑可以去除微生物粘泥的沉積，保證系統(tǒng)的清潔，這是控制軍團菌最為有效的方法。
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氧化銀
微生物在循環(huán)冷卻水系統(tǒng)中的大量繁殖生長會使水質(zhì)惡化,影響系統(tǒng)正常運行 。由日本開發(fā)研制的載銀玻璃抗菌劑以磷酸鹽玻璃和硼硅酸鹽玻璃為載體,在玻璃熔制過程中加入了氧化銀作為殺菌成分 。在冷卻循環(huán)水箱中添加適量上述可溶性玻璃及適量銅鋅合金纖維,可以持久抑菌、滅藻及防止污穢。另一種工業(yè)循環(huán)冷卻水用殺菌玻璃由SiO2 、Na2O、Al2O3 和Ag2O 組成,由于不含硼,所以這種玻璃成本低,含少量Al2O3 可提高玻璃中Ag2O 的含量并減緩玻璃的潮解,殺菌滅藻性能更強、更持久。
空調(diào)水系統(tǒng)
在熱水系統(tǒng)包括空調(diào)水系統(tǒng)中經(jīng)常會滋生一些致病微生物,如軍團菌等,危害人類健康。直接使用銀鹽就能很好地殺滅熱水系統(tǒng)中的軍團菌。研究表明，3μg/ L 的銀離子就能很好地控制循環(huán)熱水系統(tǒng)中軍團菌的生長。為控制熱水系統(tǒng)中的軍團菌，現(xiàn)在使用較多的是銅銀離子復(fù)合殺菌劑。Stout等在醫(yī)院熱水系統(tǒng)中采用含銀離子0104 mg/ L 、銅離子0117 mg/ L 的銅銀離子復(fù)合殺菌劑來控制軍團菌并取得了較好的效果。
游泳池水處理
游泳池水處理用殺菌劑必須有高度的安全性，因此含銀殺菌劑在這一領(lǐng)域有廣闊的應(yīng)用前景。Antelman 發(fā)明了一種能用于游泳池水處理的殺菌劑，該藥劑以正2 價銀的氧化物為主要殺菌物質(zhì)，能在水中穩(wěn)定存在，殺菌效率高，并且對人體有高度的安全性，完全能取代氯系、溴系殺菌劑。
飲用水處理
慧普環(huán)保公司研制出一種飲用水用高分散銀型活性炭纖維殺菌劑，與水接觸后可緩釋出銀離子，從而起到殺菌作用。據(jù)報道，這種高分散銀型活性炭纖維與水接觸2 h 后就可將常見病原性的大腸桿菌和金黃色葡萄球菌完全殺滅。
氧化硼
加入H2S04，使易揮發(fā)的PbCl2轉(zhuǎn)變成難揮發(fā)的PbSO4或?qū)⒙入x子轉(zhuǎn)變?yōu)槁然瘹涠s走。NaOH曾被用來沉淀鐵為氫氧化鐵或轉(zhuǎn)鋅為鋅酸鹽；H3B03可以防止Pb（ND3）2被器皿滯留并使PbCl2定量回收，是因為硼與硅和鉛反應(yīng)形成了硼-硅-鉛玻璃，而防止鉛被揮發(fā)，同時由于氧化硼形成二相的化合物，在酸的作用下，可以使Pb定量的轉(zhuǎn)入溶液，而防止了被石英器皿滯留。
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五、 槐氏公式的定性解
分散度即顆粒大小，分散度越大，顆粒越小。
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六、沉淀的形成過程
1、沉淀形成過程
2、成核作用（晶核的形成）
（1）均相成核作用（自發(fā)成核）
構(gòu)晶離子在過飽和溶液中由于靜電作用先形成離子對→離子群→晶核。
（2）異相成核作用（誘導(dǎo)成核）
溶液中某些固體微粒、容器壁上的毛刺等起晶種作用，形成晶核（晶核數(shù)不變）。
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七、表面吸附
吸附層：優(yōu)先吸附構(gòu)晶離子 。
擴散層：優(yōu)先吸附與構(gòu)晶離子能形成溶解度小，離解度小的物質(zhì)的抗衡離子。當(dāng)C相近時，
Z愈大，變形性愈大，越易被吸附；
當(dāng)Z相同時，C愈大，越易被吸附。
一般，某些陰陽離子被吸附的強度順序
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八、參數(shù)與功能要求
過濾精度：1.0～8.0mm 管道連接：GB法蘭
離子置換率>90% 濁度<21 PH 7~8
總硬度<800mg/L 設(shè)備承壓≤1.6mpa
電流：Ac220v 50Hz 溶縮倍數(shù)：6～8倍
除垢：>99% 防垢：>99%
除銹：>98% 水溫：0~80℃
殺軍團菌率>99% 滅藻率>99%
殺滅細菌率>99% 壓損<0.016Mpa
流速1～25m/s 水頭損失：0.15～1.0m
壓差范圍：28～310KPa 電異率≤200us/cm
防腐蝕率：<0.005毫米/年 腐蝕速度≤0.125mm／a(5mpy)
色度≤80~100 陰離子N03
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九、動態(tài)HP離子群機組參數(shù)及尺寸表
| 型號 |
進出水口
徑mm |
最大處理
流量T/H |
主機尺寸 |
副機尺寸 |
電源 |
離子群釋
放時間 |
參數(shù)重量 |
| L |
H |
B |
L |
h1 |
d |
|
主機 |
副機 |
| HP-WA-2R/N |
50 |
35 |
600 |
1200 |
500 |
680 |
251 |
612 |
20 |
220v |
150 |
30 |
45 |
| HP-WA-3R/N |
80 |
55 |
600 |
1200 |
500 |
710 |
278 |
612 |
25 |
220v |
150 |
30 |
48 |
| HP-WA-4R/N |
100 |
90 |
600 |
1200 |
500 |
710 |
318 |
612 |
25 |
220v |
150 |
30 |
56 |
| HP-WA-5R/N |
125 |
130 |
600 |
1200 |
500 |
730 |
327 |
645 |
25 |
220v |
150 |
30 |
72 |
| HP-WA-6R/N |
150 |
190 |
600 |
1200 |
500 |
730 |
382 |
695 |
40 |
220v |
150 |
30 |
80 |
| HP-WA-8R/N |
200 |
320 |
600 |
1200 |
500 |
780 |
410 |
825 |
40 |
220v |
150 |
30 |
95 |
| HP-WA-10R/N |
250 |
500 |
600 |
1200 |
500 |
805 |
490 |
850 |
50 |
220v |
150 |
30 |
126 |
| HP-WA-12R/N |
300 |
760 |
600 |
1200 |
500 |
935 |
520 |
910 |
50 |
220v |
150 |
30 |
175 |
| HP-WA-14R/N |
350 |
1100 |
600 |
1200 |
500 |
1080 |
554 |
930 |
80 |
220v |
150 |
30 |
216 |
| HP-WA-16R/N |
400 |
1350 |
600 |
1200 |
500 |
1180 |
572 |
985 |
80 |
220v |
150 |
30 |
265 |
| HP-WA-18R/N |
450 |
1600 |
600 |
1200 |
500 |
1260 |
600 |
1025 |
80 |
220v |
150 |
30 |
358 |
| HP-WA-20R/N |
500 |
2200 |
600 |
1200 |
500 |
1345 |
718 |
1070 |
100 |
220v |
150 |
30 |
475 |
| HP-WA-24R/N |
600 |
2900 |
600 |
1200 |
500 |
1490 |
841 |
1140 |
100 |
220v |
150 |
30 |
740 |
| HP-WA-28R/N |
700 |
3450 |
600 |
1200 |
500 |
1620 |
992 |
1186 |
100 |
220v |
150 |
30 |
999 |
| HP-WA-32R/N |
800 |
4150 |
600 |
1200 |
500 |
1700 |
1190 |
1245 |
100 |
220v |
150 |
30 |
1350 | |
