KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射沉積鈦金屬薄膜

鈦金屬具有許多優異的性能, 例如低密度/ 高熔點/ 耐腐蝕/ 無磁性和硅基襯底結合力好/ 具有形狀記憶和吸氫特性等, 因此對于磁控濺射沉積鈦薄膜的研究有很多.

上海某大學研究室在多層鈦膜做微觀結構的研究中采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 濺射沉積鈦薄膜做加熱電路提高器件溫度,從而提高光波導器件中硅材料的折射率.

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術參數:

* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量

KRI 離子源的獨特功能實現了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現的.

因此, 該研究項目才采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射沉積工藝.

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵,  檢漏儀,  質譜儀,  真空計,  美國 KRI 考夫曼離子源,  美國HVA 真空閥門,  美國 inTEST 高低溫沖擊測試機,  美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的代理商.

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