KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 濺射沉積紅外器件介質(zhì)膜

產(chǎn)品價格：	11/人民幣
最后更新：	2021-01-15 15:39:58
產(chǎn)品產(chǎn)地：	美國
發(fā)貨地：	本地至全國 (發(fā)貨期：當(dāng)天內(nèi)發(fā)貨)
供應(yīng)數(shù)量：	不限
有效期：	長期有效
最少起訂：	1
瀏覽次數(shù)：	193

公司基本資料信息

伯東企業(yè)(上海)有限公司
羅先生
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產(chǎn)品詳細(xì)說明

某紅外半導(dǎo)體鍍膜工業(yè)廠商采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射沉積紅外器件介質(zhì)膜, 以提高鍍膜厚度的均勻性.

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數(shù):

離子源型號	RFICP220
Discharge	RFICP 射頻
離子束流	>800 mA
離子動能	100-1200 V
柵極直徑	20 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	10-40 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
長度	30 cm
直徑	41 cm
中和器	LFN 2000

* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量

KRI 射頻離子源 RFICP 220

提高鍍膜均勻性的重要性：

以碲鎘汞半導(dǎo)體材料為代表的紅外探測器器件工藝中, 幾乎都要進(jìn)行表面鈍化和金屬膜電極成型工藝, 在紅外焦平面和讀出電路的互連工藝中, 金屬膜的厚度均勻性對于互連工藝的可靠性起著至關(guān)重要的作用. 在背照式紅外探測器的紅光收面, 往往都要涂鍍一層或數(shù)層介質(zhì)膜, 以起到對器件進(jìn)行保護(hù)和對紅外輻射減反射的作用, 介質(zhì)膜的厚度均勻性同樣會影響探測器的濾光和接收帶寬.

為了提高均勻性, 客戶同時采用基片離心旋轉(zhuǎn)法, 樣品臺轉(zhuǎn)速為 15 r/min.

KRI 離子源的獨(dú)特功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能, 增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無法實(shí)現(xiàn)的.

若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式:

上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322                 T: +886-3-567-9508 ext 161
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