KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 成功用于復合磁控濺射沉積裝置

產品價格：	11/人民幣
最后更新：	2021-01-14 16:25:38
產品產地：	美國
發貨地：	本地至全國 (發貨期：當天內發貨)
供應數量：	不限
有效期：	長期有效
最少起訂：	1
瀏覽次數：	146

公司基本資料信息

伯東企業(上海)有限公司
羅先生
會員[試用會員產品]
郵件marketing@hakuto-vacuum.cn
手機15201951076
電話
傳真
地址上海市浦東新區新金橋路1888號36號樓7樓702室 201206

產品詳細說明

某 OEM 系統集成商在搭建系統-復合磁控濺射沉積裝置, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 作為濺射源.

KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數:

射頻離子源型號	RFICP380
Discharge 陽極	射頻 RFICP
離子束流	>1500 mA
離子動能	100-1200 V
柵極直徑	30 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	15-50 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
長度	39 cm
直徑	59 cm
中和器	LFN 2000

該復合磁控濺射沉積裝置主要包含：

1. 濺射源-KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380

2. 清洗源-KRI 霍爾離子源 eH3000

3. 高功率脈沖磁控濺射電源

4. 真空泵- Pfeiffer 分子泵 HiPace700

5. 基臺

KRI 離子源的獨特功能實現了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現的.

若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式:

上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322                 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                   M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

在線詢盤/留言 請仔細填寫準確及時的聯系到你!

您的姓名：	您的姓名沒有寫*	預計需求數量：	* 請輸入整數請填寫數量
聯系手機：	*請填寫你的手機號碼	移動電話或傳真：
電子郵件：	*郵箱格式不正確請填寫你的電子郵件	所在單位：
咨詢內容：	我想了解：《KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 成功用于復合磁控濺射沉積裝置》的詳細信息.請商家盡快與我聯系。 * 請填相關內容

更多..本企業其它產品