KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 用于鋁表面濺射沉積 ZrN 薄膜

河北某大學研究室為了研究磁控濺射時間和氮氣流量對 ZrN 薄膜色度的影響, 采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助在鋁表面濺射沉積ZrN 薄膜

KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數:

KRI 離子源的獨特功能實現了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現的.

試驗結論:

隨著磁控濺射時間的增長, 薄膜的亮度在減少, 黃藍值在 3 min時出現最大值, 說明鍍膜時間在 3 min 時最接近黃色, 紅綠值波動比較大; 而氮氣流量在 13~18 sccm 內, 薄膜顏色呈金黃色.

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

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