KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射制備 LaF3 薄膜

產(chǎn)品價格：	11/人民幣
最后更新：	2020-12-25 16:09:50
產(chǎn)品產(chǎn)地：	美國
發(fā)貨地：	本地至全國 (發(fā)貨期：當天內(nèi)發(fā)貨)
供應(yīng)數(shù)量：	不限
有效期：	長期有效
最少起訂：	1
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公司基本資料信息

伯東企業(yè)(上海)有限公司
羅先生
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產(chǎn)品詳細說明

因此某光學(xué)薄膜制造商采用20cm 的濺射源為 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 輔助濺射制備 LaF₃ 薄膜.

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數(shù):

離子源型號	RFICP220
Discharge	RFICP 射頻
離子束流	>800 mA
離子動能	100-1200 V
柵極直徑	20 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	10-40 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr
長度	30 cm
直徑	41 cm
中和器	LFN 2000

* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量

KRI 射頻離子源 RFICP 220

運行結(jié)果:

1. 采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 鍍制的 LaF₃ 薄膜折射率更高, 且不存在折射率的梯度分布

2. 制備的 LaF3薄膜的環(huán)境穩(wěn)定性更高

3. 離子源濺射制備的減反膜透過率為99.2%, 反射率為 0.1%, 表現(xiàn)了較好的光學(xué)特性

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

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KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射制備 LaF3 薄膜

因此某光學(xué)薄膜制造商采用20cm 的濺射源為 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 輔助濺射制備 LaF3 薄膜.

因此某光學(xué)薄膜制造商采用20cm 的濺射源為 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 輔助濺射制備 LaF₃ 薄膜.