KRI 霍爾離子源 EH5000F用于大尺寸光學蒸鍍機

隨著市場需求, 無論在于太陽眼鏡光學鍍膜 (AR coating), 智能型手機照相鏡頭 (Lens coating) 鍍膜質量及效率都必須提高.

為了提高鍍膜質量和生產效率, 鍍膜制造商一般會選擇離子源進行輔助鍍膜, 有利于:
1. 填充密度提高: 折射率提高
2. 波長漂移減少
3. 紅外波段的水氣吸收減少
4. 增強了膜層的結合力、耐摩擦能力, 機械強度, 提高表面光潔度
5. 控制膜層的應力
6. 減少膜層的吸收和散射
7. 提高生產效率

伯東公司代理的美國考夫曼公司 KRI 霍爾離子源EH5000F 已成功應用于光學鍍膜中必須的輔助鍍膜應用, 使得大尺寸光學鍍膜機生產過程獲得高生產良率.

 

KRI 霍爾離子源 EH5000F優點:

1. 高離子濃度 (High density), 低能量 (Low energy)

2. 離子束涵蓋面積廣 (high ion beam sharp)               

3. 鍍膜均勻性佳

4. 提高鍍膜品質

5. 模塊化設計,保養快速方便

6. 增加光學膜后折射率 (Optical index)      

7. 全自動控制設計,超做簡易

8. 低耗材成本

9. 安裝簡易

伯東公司為 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) 美國考夫曼公司大中華總代理.

離子源發明人 Dr. Kaufman 考夫曼博士于1978年考夫曼博士在美國自行創立 Kaufman & Robinson, Inc. (KRi) 公司并歷經30年離子源之改良及研發并取得多項專利, 目前已在光學鍍膜 (Optical coating), IBAD (離子源助鍍), IBSD (離子濺鍍), IBE (離子刻蝕), DD (離子鍍膜) 等等應用領域大量使用.

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

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