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河北耀一環(huán)保高分子煙氣脫硝設(shè)備后期運行費用低
一直以來SCR法脫硝設(shè)備技術(shù)是去除NOx的方法,這種脫硝方法是可以在現(xiàn)有的工藝下加入脫硝裝置,在含氧化合物氣氛下,還原劑有限與廢氣中NO產(chǎn)生反應(yīng)的催化過程則稱為選擇性催化還原,高分子脫硝設(shè)備是實脫硝設(shè)備之一,高分子SNCR脫硝技術(shù)工藝是在業(yè)內(nèi)通稱的一種干式粉狀脫硝劑的噴射工藝,它也屬于一種窯爐內(nèi)SNCR脫硝工藝技術(shù),其脫硝主要是靠高分子脫硝劑來完成,高分子脫硝劑的性質(zhì)是一種高分子活性物質(zhì),在使用
時通過氣力混合然后輸送到鍋爐爐膛中,在700℃以上便被機活、氣化,則會在瞬間與NOx發(fā)生一定化學(xué)反應(yīng),經(jīng)反應(yīng)還原成N2和H2O。就這樣便被從源頭遏制了NOx的生成,從而達到脫硝的目的。