原位硅油真空凍干機(jī)一平方LGJ-100F編程工藝

原位硅油真空凍干機(jī)一平方LGJ-100F編程工藝詳細(xì)介紹：

LGJ-100F硅油加熱中試原位真空凍干機(jī)（1m2），適配中試階段“小批量制備（單次凍干量5-20kg）、工藝驗(yàn)證、參數(shù)放大"的核心需求。在材料領(lǐng)域，該設(shè)備憑借“原位凍干無(wú)轉(zhuǎn)移、硅油準(zhǔn)確控溫、中試產(chǎn)能適配"的特點(diǎn)，成為納米材料、電子化學(xué)品、特種陶瓷等“熱敏、易團(tuán)聚、高純度要求"材料的關(guān)鍵制備設(shè)備。材料形態(tài)多樣（懸浮液、膏狀、凝膠、塊狀），且不同材料的凍干需求差異大（如納米粉體需快速預(yù)凍，陶瓷前驅(qū)體需長(zhǎng)時(shí)間保溫），該設(shè)備的編程功能可靈活適配：多模式凍干曲線：支持“多步預(yù)凍（如-10℃→-40℃→-20℃）、多階段升溫（如-40℃→-20℃→0℃→30℃）、長(zhǎng)時(shí)間保溫（如解析階段30℃保溫12小時(shí)）"，可滿足：凝膠材料（如氣凝膠前驅(qū)體）：需緩慢降溫避免開(kāi)裂，設(shè)定0.5℃/min的預(yù)凍速率；高含水量膏狀材料（如鋰電池正極漿料）：需延長(zhǎng)升華時(shí)間，設(shè)定0.2℃/h的升溫速率，確保內(nèi)部水分全部移除；百組配方存儲(chǔ)：可存儲(chǔ)100+組不同材料的凍干配方（如“量子點(diǎn)配方"“陶瓷粉配方"“光刻膠配方"），切換生產(chǎn)時(shí)僅需調(diào)用參數(shù)，無(wú)需重復(fù)調(diào)試，適配中試階段“多品類、小批量"的研發(fā)需求。

原位硅油真空凍干機(jī)一平方LGJ-100F編程工藝配置特點(diǎn)與功能說(shuō)明：

采用液晶觸摸屏操作面板，可通過(guò)觸屏實(shí)現(xiàn)制冷機(jī)與真空泵的啟停、凍干工藝配方的編輯，并實(shí)時(shí)顯示凍干曲線、樣品溫度、冷阱溫度、真空度、運(yùn)行時(shí)間等數(shù)據(jù)。

配備7英寸液晶工業(yè)嵌入式觸摸屏及SH-HPSC-II模塊化控制器，控制精度高，性能穩(wěn)定可靠。

壓蓋機(jī)型可選手動(dòng)或自動(dòng)壓塞功能，真空環(huán)境下對(duì)西林瓶溶液封裝，避免二次污染。

采用法國(guó)泰康進(jìn)口壓縮機(jī)，搭配環(huán)保制冷劑，制冷效率高、節(jié)能、壽命長(zhǎng)且運(yùn)行噪音低。

在升華階段可精確控制樣品升溫速率，有效提升升華效率。

智能數(shù)據(jù)記錄功能實(shí)時(shí)記錄并顯示冷阱溫度曲線、樣品溫度曲線、真空度曲線等，并可存儲(chǔ)上百組工藝配方，方便查閱歷史數(shù)據(jù)與曲線。

設(shè)備具備終點(diǎn)提示功能，程序完成后可提醒用戶，也可按需繼續(xù)凍干。

標(biāo)配冷阱溫度為-80℃，采用兩臺(tái)進(jìn)口壓縮機(jī)及雙機(jī)復(fù)疊制冷技術(shù)，滿足低共晶點(diǎn)物料需求。

工業(yè)級(jí)PLC控制系統(tǒng)支持百組工藝配方存儲(chǔ)，單程序可設(shè)50段梯度控溫，并具備區(qū)段跳轉(zhuǎn)功能，增強(qiáng)實(shí)驗(yàn)靈活性。

具備工藝區(qū)段跳轉(zhuǎn)功能，可根據(jù)實(shí)際需求快速切換區(qū)段，提升工藝調(diào)整靈活性。

控制系統(tǒng)可保存上百組配方，可自由編程與存儲(chǔ)凍干工藝配方，每組含50個(gè)控溫區(qū)段，提高工藝優(yōu)化效率。

具備預(yù)凍功能，冷阱可替代低溫冰箱，捕冰均勻且能力強(qiáng)。

數(shù)據(jù)可通過(guò)USB導(dǎo)出，便于在電腦上瀏覽、打印及進(jìn)一步分析，支持工藝優(yōu)化與效果驗(yàn)證。

凍干曲線優(yōu)化控制技術(shù)可在升華與解析干燥階段準(zhǔn)確控制升溫速率。

支持用戶等級(jí)與密碼設(shè)置，實(shí)現(xiàn)分權(quán)管理。

隔板內(nèi)置低粘度硅油介質(zhì)，支持加熱與制冷雙向控溫，升華過(guò)程中隔板溫度可靈活升降，便于工藝探索。

硅油加熱控溫系統(tǒng)可根據(jù)物料特性自由編程復(fù)雜凍干曲線，支持多步預(yù)凍、多階段升溫及長(zhǎng)時(shí)間保溫等模式。

主要配置包括：原位方倉(cāng)主機(jī)1臺(tái)、國(guó)產(chǎn)真空泵1臺(tái)、不銹鋼物料盤6塊、真空連接管道1套、泵油1壺。

支持自動(dòng)控制，可提前編輯工藝，一鍵啟動(dòng)后自動(dòng)完成預(yù)凍、真空泵開(kāi)啟、升華等流程，減少人工干預(yù)。

整機(jī)啟動(dòng)保護(hù)機(jī)制確保所有安全條件滿足后才可運(yùn)行。

方倉(cāng)原位真空冷凍干燥機(jī)實(shí)現(xiàn)物料預(yù)凍與干燥原位完成，操作簡(jiǎn)便，干燥效果佳。

標(biāo)配樣品溫度探頭，實(shí)時(shí)測(cè)量并顯示樣品溫度，為掌握凍干狀態(tài)提供準(zhǔn)確參考。

實(shí)時(shí)報(bào)警顯示與歷史報(bào)警查詢功能便于故障診斷與維護(hù)。

高壓壓力保護(hù)系統(tǒng)在排氣壓力超時(shí)自動(dòng)切斷制冷機(jī)運(yùn)行，防止意外發(fā)生。

配備放水/放氣閥門，關(guān)機(jī)前可充氣排出升華水或充入惰性氣體保護(hù)樣品。

標(biāo)配國(guó)產(chǎn)真空泵，國(guó)際通用接口可適配進(jìn)口真空泵。

LGJ-100F硅油加熱中試原位真空凍干機(jī)（1m2）技術(shù)指標(biāo)：

制冷系統(tǒng)：2臺(tái)法國(guó)原裝泰康全封閉壓縮機(jī)

冷阱溫度：≤-80℃（空載）

捕水能力：≥15Kg/24h

凍干面積：1m2

物料盤尺寸：360mm×480mm

物料盤數(shù)量：6塊

可裝樣品：10L(以厚度10mm計(jì)，增加厚度可增加裝入量)

隔板層數(shù)：6+1層，最上一層是溫度補(bǔ)償層

隔板尺寸：360mm×480mm

隔板溫度范圍：-50℃-+70℃（空載）

升/降溫速率：可控

隔板溫差：±1℃（平衡時(shí)）

隔板間距：70mm

除霜方式：電加熱化霜

真空泵抽氣速率：15L/S

極限真空度：≤1Pa

冷阱降溫速率：+20℃降到-40℃/30分鐘內(nèi)

冷阱制冷：冷凍機(jī)直接制冷

板層降溫速率：+20℃降到-40℃/60分鐘內(nèi)

板層升溫速率：-40℃升到+20℃/60分鐘內(nèi)

凍干箱抽空速率：大氣壓→10Pa≤30分鐘

箱門材質(zhì)：亞克力

冷阱材質(zhì)：304不銹鋼

板層面板材料：304不銹鋼

電壓：220V

功率：6.5KW

外形尺寸：1020×780×1700mm

重量：550kg

冷卻方式：風(fēng)冷

質(zhì)保期：主機(jī)免費(fèi)質(zhì)保一年

原位真空凍干機(jī)干燥流程三階段：凍干主體流程（硅油控溫+編程自動(dòng)執(zhí)行）

階段1：原位預(yù)凍——凍結(jié)懸浮液，鎖定顆粒形態(tài)

自動(dòng)降溫：PLC系統(tǒng)指令硅油加熱隔板啟動(dòng)制冷，硅油溫度以2℃/min的速率從室溫降至-45℃，通過(guò)熱傳導(dǎo)使淺盤中的懸浮液逐步凍結(jié)（約30分鐘全部?jī)鼋Y(jié)成固態(tài)，無(wú)液態(tài)水殘留）；

恒溫保冷：保持-45℃恒溫2小時(shí)，確保冰晶充分形成且顆粒被均勻包裹，避免后續(xù)升華時(shí)顆粒團(tuán)聚。

階段2：原位升華干燥——冰晶升華，移除自由水

抽真空：預(yù)凍結(jié)束后，自動(dòng)啟動(dòng)真空泵，將腔體內(nèi)真空度抽至5-10Pa（低氣壓環(huán)境使冰晶在-45℃下直接升華），冷阱保持-60℃，吸附升華產(chǎn)生的水蒸氣（凝結(jié)成霜）；

硅油控溫升華：硅油溫度以0.5℃/h的速率從-45℃升至0℃，緩慢向物料傳遞升華潛熱（避免局部過(guò)熱導(dǎo)致冰晶融化），懸浮液中的冰晶逐步升華為水蒸氣，通過(guò)真空管道被冷阱捕集；

過(guò)程監(jiān)控：實(shí)時(shí)觀察“物料溫度曲線"（需始終低于TiO?懸浮液的低共晶點(diǎn)-35℃），若物料溫度異常升高（如超過(guò)-30℃），系統(tǒng)自動(dòng)降低硅油升溫速率（如從0.5℃/h降至0.3℃/h），確保凍干安全；

終點(diǎn)判斷：當(dāng)物料溫度升至與硅油溫度接近（溫差≤2℃）、真空度穩(wěn)定在5Pa以下時(shí)，升華干燥結(jié)束（此時(shí)約90%的自由水已移除）。

階段3：原位解析干燥——移除結(jié)合水，降低殘留水分

升溫保壓：硅油溫度以1℃/h的速率從0℃升至35℃，保持真空度≤5Pa，通過(guò)較高溫度使顆粒表面的結(jié)合水脫離（如羥基吸附水），繼續(xù)被冷阱捕集。