KRI 離子源可用于輔助鍍膜技術 IAC

鍍膜技術 IAC 是利用沉積原子和轟擊離子之間一系列的物理化學作用, 可在常溫下合成各種優質薄膜. 其關鍵技術是離子源、靶室和工藝參數的控制.

離子源

離子源是產生所需離子的關鍵部件, 它的種類與質量決定著制備膜層的性能和質量. KRI 考夫曼離子源, 它能產生氣體元素的大面積離子束, 適合用于離子束濺射鍍膜、對膜層進行離子束轟擊以及對工件進行離子束表面清洗.

伯東為客戶提供柵極離子源和無柵離子源, 客戶可根據自己的工藝需求, 選擇不同的離子源.

伯東 KRI 離子源有:
KRI 射頻離子源 RFICP 系列： RFICP 380、RFICP 220、RFICP 140 、RFICP 100、 RFICP 40
KRI 考夫曼離子源 Gridded KDC 系列： KDC 160、KDC 100、KDC 75、KDC 40、KDC 10
KRI 霍爾離子源 Gridless eH 系列:eH 3000、eH 2000、eH 1000、eH 400、eH Linear

靶室
靶室是裝載工件, 進行離子束表面處理的部件, 它的容積大小、靶的工件夾具機構及其運動方式, 隨工件種類的不同, 差異很大.

工藝參數控制
精確控制工藝參數, 保證工件表面的沉積原子數與轟擊原子數達到一定的比例, 對膜層的性能和質量至關重要.

KRI 離子源在創新設計, 產品質量和技術專長方面享譽全球. 這些離子源可輸出高質量和穩定的離子束, 通過控制器可以實現精確控制, 以提供確定的形狀, 電流密度和離子能量.


實際應用證明, 離子源用在鍍膜技術 IAC可制備出結合力很強的具有各種特殊的膜層, 如ZrN、ZrC、BN、TiO2和類金剛石碳膜等.

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

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