EVAC，10L真空界面閥-5979600技術(shù)遼寧

EVAC，10L真空界面閥-5979600技術(shù)遼寧

半封閉螺桿壓縮機(jī)乙二醇低溫冷水機(jī)組與國(guó)產(chǎn)開啟螺桿乙二醇低溫冷水機(jī)組比較壓縮機(jī)可靠性比較：目前國(guó)內(nèi)半封閉型乙二醇低溫冷水機(jī)組制冷主機(jī)主要采用進(jìn)口半封閉螺桿壓縮機(jī)，主要機(jī)型有復(fù)盛、Hanbell、德國(guó)Bitzer。該三工廠是全球半封閉壓縮機(jī)產(chǎn)量大的兩個(gè)工廠（年產(chǎn)量超過2萬臺(tái)），在正常使用條件下（按說明書要求換油），可在5萬小時(shí)內(nèi)無故障運(yùn)行，設(shè)計(jì)壽命15萬小時(shí)。半封閉螺桿壓縮機(jī)的電機(jī)采用氟利昂噴液冷卻方式，不隨機(jī)房溫度影響，電機(jī)冷卻效果較好，電機(jī)效率高。
EVAC，2L真空界面閥-6543469
EVAC，2L真空界面閥-6543521
EVAC，5L真空界面閥-5980914
EVAC，5L真空界面閥-5981000
EVAC，5L真空界面閥-6545873
EVAC，5L真空界面閥-6545872
EVAC，7L真空界面閥-6541672
EVAC，7L真空界面閥-6545873
EVAC，10L真空界面閥-5979500
EVAC，10L真空界面閥-5979600
EVAC，10L真空界面閥-6542601
EVAC，10L真空界面閥-6542586
EVAC，2L真空灰水閥-6543469
EVAC，2L真空灰水閥-6543521
EVAC，5L真空灰水閥-5980914
EVAC，5L真空灰水閥-5981000
EVAC，5L真空灰水閥-6545873
EVAC，5L真空灰水閥-6545872
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EVAC，7L真空灰水閥-6545873
EVAC，10L真空灰水閥-5979500
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柱塞泵APP1.5180B3043
柱塞泵APP3.5180B3032
柱塞泵APP0.6180B3048
柱塞泵APP2.2180B3045
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柱塞泵APP2.5180B3046
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柱塞泵APP11/1200180B3212
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APP92/1780180B7810柱塞泵EVAC，10L真空界面閥-5979600技術(shù)遼寧

概述：溫度控制分體式記錄儀廣泛應(yīng)用在化工、熱電、石化、制藥、冶金、機(jī)械、電爐、熱處理、食品、造紙及、科研實(shí)驗(yàn)等領(lǐng)域。作元素分析測(cè)定做燒結(jié)、一般小型鋼件淬火、退火、回火等熱處理時(shí)加熱用，高溫爐還可作金屬、陶瓷的燒結(jié)、溶解、分析等高溫加熱用，特別適用于煤質(zhì)分析試驗(yàn)，在煤的灰分、揮發(fā)分的測(cè)定以及煤灰成份的分析。溫度控制記錄儀對(duì)溫度控制各類執(zhí)行器可控硅、固態(tài)繼電器、交流接觸器、電動(dòng)調(diào)節(jié)閥、氣動(dòng)調(diào)節(jié)閥、電磁閥等。
穆格MOOG伺服閥 D661-6393C
穆格MOOG伺服閥 D661-4770
穆格MOOG伺服閥 D662-4194/D061-9420
穆格MOOG伺服閥 D662-4141/D062-9320
MOOG 穆格伺服閥 G761-3033B
MOOG 穆格伺服閥 G761-3034B
MOOG 穆格伺服閥 G761-3023B
MOOG 穆格伺服閥 G761-3002B
EMG 伺服閥 LLS 675/02
EMG 伺服閥 SV1-10/32/315-6
EMG 伺服閥 SV1-10/8/315/6SV1-10/16/120/6
EMG 伺服閥 SV1-10/48/315-6
EMG 伺服閥 SV1-10/16/315-6
EMG傳感器KLW 300.012
EMG 位置傳感器 KLW 150.012
EMG 傳感器 KLW 225.012
EMG 位置傳感器 KLW 360.012
EMG 位置傳感器 KLW150.012
EMG 位置傳感器 KLW225.012
EMG 位置傳感器 KLW300.012
EMG 位置傳感器 KLW450.012
EMG 位置傳感器 KLW600.012
EMG 伺服閥 SV1-10/8/315/6
EMG 伺服閥 SV1-10/48/315/6
EMG 伺服閥 SV1-10/32/100/6
EMG 伺服閥 SV1-10/8/120/6
EMG 伺服閥 SV1-10/4/120/6
EMG 伺服閥 SV2-16/125/315/1/1/01
EMG 濾芯 HFE400/10H
EMG 位移傳感器 KLM300/012
EMG 對(duì)中整流器 LLS675/02
EMG 光 LIC1075/11
EMG 電路處理板 EVK2.12
EMG 電源 BK11.02
EMG 處理器 MCU16.1
EMG VKI3-11-200/1600/750/M/E/W/A/
EMG 對(duì)中光源 LID2-800.2C
EMG 對(duì)中光源 LID2-800.2C
EMG 電動(dòng)執(zhí)行器 DMC2000-B3-160-SMC002-DCS
EMG 位移傳感器 KLW300.012
EMG 電路板 LIC2.01.1
EMG 推動(dòng)桿EB1250-60IIW5T
EMG 推動(dòng)桿EB800-60II
EMG 推動(dòng)桿EB220-50/2IIW5T
EMG 推動(dòng)桿EB300-50IIW5T
EMG 發(fā)射光源L1C770/01-24VDC/3.0A
EMG 制動(dòng)器ED121/6 2LL5   551-1
EMG 光電探頭EVK2-CP/800.71L/R
EMG 放大器EVB03/235351
EMG 對(duì)中控制SMI  2.11.1/2358100134300
EMG 電路板SMI   2.11.3/235990
EMG 泵DMC   249-A-40
EMG 泵DMC   249-A-50
EMG 泵DMC 30   A-80
EMG 泵DPMC   59-V-8
EMG 位置傳感器LWH-0300
EMG 電動(dòng)執(zhí)行器DMCR59-B1-10
EMG 伺服閥SV1-10/32/315/6
EMG 伺服閥SV1-10/32/315/8
EMG 伺服閥SV1-10/48/315/8
EMG 伺服閥SV2-10/64/210/6
EMG對(duì)中光源LID2-800.2C
EMG KLW300-012
CPC LS14.02
KLW 360.012
EPC EVM2-CP/1300.71/L/R
EPC CCDPro 5000
CPC LS13.01
EMG光電式測(cè)量傳器 EVM2-CP/1850 71/L/R
EMG高頻光源 LLS875/01
EMG數(shù)字式控制器 ICON SE+VS/AE1054
EMG適配器 EVB03.01
旋裝過濾器\ARIEL\A-0661
一級(jí)排氣組件\ARIEL\B-5735-N
閥門組件。\ARIEL\B-5730-N
排放閥\ARIEL\B-3492-HH
吸入閥\ARIEL\B-3491-JJ
排放閥\ARIEL\B-3712-GG
吸入閥\ARIEL\B-4087-FF
同心閥\ARIEL\B-1788-E
排氣閥\ARIEL\B-3712-GG\增壓壓縮機(jī)\JGN/2\F-42917\A-9208
吸入閥\ARIEL\B-4087-FF\增壓壓縮機(jī)\JGN/2\F-42917\A-9251
排出閥\ARIEL\B-3481-JJ
吸入閥\ARIEL\B-4692-M
排出閥\ARIEL\B-5735-P
同心閥\ARIEL\B-1967-E
強(qiáng)制進(jìn)油潤(rùn)滑器泵\ARIEL\A-18525
強(qiáng)制關(guān)閉饋送\ARIEL\A-10753
閥套件\ARIEL\KB-5730-N
閥套件\ARIEL\KB-5735-P
閥套件\ARIEL\KB-3481-JJ
閥套件\ARIEL\KB-4692-M
閥套件\ARIEL\KB-3712-GG
閥套件\ARIEL\KB-4087-FF
閥同心套件\ARIEL\KB-1967-E
一級(jí)排氣閥修理包\ARIEL\KB-5735-N
排氣閥套件\ARIEL\KB-3492-HH
吸入閥套件\ARIEL\KB-3491-JJ
同心閥組件\ARIEL\KB-1788-E
分流閥組件。\ARIEL\A-4386
分流閥組件。\ARIEL\A-6586
EVAC，10L真空界面閥-5979600技術(shù)遼寧

納濾技術(shù)簡(jiǎn)介：推動(dòng)力：壓力差。透過物質(zhì)：水和溶劑，透過粒徑小于1nm。被截留物質(zhì)：無機(jī)鹽、糖類、氨基酸和有機(jī)物。納濾膜：納濾膜是在反滲透膜基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，是超低壓反滲透技術(shù)的延續(xù)，早期被稱為低壓反滲透膜。目前，納濾技術(shù)已從反滲透技術(shù)中分離出來，成為獨(dú)立的分離技術(shù)。納濾膜的孔徑為納米級(jí)，介于反滲透膜和超濾膜之間，因此稱為納濾膜。納濾膜的表層較反滲透膜的表層要疏松的多，較超濾膜的表層要致密的多，因此制膜關(guān)鍵是合理調(diào)節(jié)表層的疏松程度，以形成大量具納米級(jí)的表層孔。