我公司研發(fā)生產(chǎn)的CVD系統(tǒng)集真空管式爐，多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成,可根據(jù)用戶需要設計生產(chǎn)，各款管式爐，氣路系統(tǒng)和真空機組可多種方式組合，真空泵、閥均采用進口產(chǎn)品，性能?？刂齐娐愤x用模糊PID程控技術，具有控溫精度高，溫沖幅度小，性能，簡單易操作等特點。CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。產(chǎn)品特點1.該設備生長溫度更低2.使用滑軌爐實現(xiàn)快速升溫和降溫，沉積速率快3.設備輝光均勻等效，均勻生長，成膜質(zhì)量好4.支持外部真空規(guī)和壓力變送器5.支持智能進氣，根據(jù)需要設定不同的溫度，自動進氣，進氣定時間到后自動停止進氣6.支持云端數(shù)據(jù)存儲，隨時查看數(shù)據(jù)7.支持爐膛移動速度調(diào)節(jié)8.支持射頻電源根據(jù)外部工況條件自動啟動停止9.支持壓力恒定，壓力可以設定10.支持壓保護壓力值可以設定過后系統(tǒng)自動進入保護狀態(tài)
