電子廠廢氣處理設(shè)備：
采用UV催化氧化設(shè)備技術(shù)+活性炭吸附設(shè)備來來處理電子廠廢氣，通過收集罩將有機(jī)廢氣收集輸送到UV光氧催化設(shè)備中，用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧。剩余的有機(jī)通過活性炭吸附箱中活性炭進(jìn)行吸附得以處理。處理后進(jìn)行15米高空排放。如廢氣中還含有粉塵可加前處理裝置水噴淋。執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：GB16297-1996《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》和GB14554-93《惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》。
相對于冷凝、炭吸附、低溫等離子等廢氣處理技術(shù)，在電子廠廢氣使用多相催化氧化設(shè)備技術(shù)時更科學(xué)、更安全，且性價比也更高。通過該套設(shè)備處理廢氣，廢氣凈化率可達(dá)90%以上。
但對于一些大型電子廠處理量較大就不太適合于這種方法。因為活性炭存在一定飽和的，飽和之后需要進(jìn)行更換。廢氣量大的電子廠更換的相對頻繁。對此可采用活性炭吸附催化燃燒設(shè)備對電子行業(yè)廢氣處理。該設(shè)備采用蜂窩狀活性炭為吸附劑，結(jié)合吸附凈化、脫附再生并濃縮VOC和催化燃燒的原理，即將大風(fēng)量、低濃度的有機(jī)廢氣通過蜂窩狀活性炭吸附以達(dá)到凈化空氣的目的。
