耀一環(huán)保設備工藝專注脫硝

耀一環(huán)保設備工藝專注脫硝

脫除氮氧化物的技術，脫氮可分為兩大類，濕法脫硝及干法脫硝。那么干法脫硝和濕法脫硝工藝的特點是什么呢？小編為大家介紹一下：

濕法脫硝工藝包括: 非選擇性催化還原法(SNCR)、酸吸收法、堿吸收法、氧化吸收法、絡鹽吸收法等;

煙氣企業(yè)常用的濕法工藝為非選擇性催化還原法(SNCR)。

濕法脫硝SNCR工藝脫硝設備原理：

SNCR脫硝技術是一種不用催化劑，在850℃-1100℃范圍內還原NOx的方法。SNCR技術是把還原劑如氨、尿素噴入爐膛溫度為850 ℃-1100℃的區(qū)域。該還原劑迅速熱分解成NH3并與煙氣中的NOx進行SNCR反應生成N2和H2O。不需催化劑，工程造價大大降D；SNCR完quan布置在鍋爐本體上，不需要占地面積；特別適用于老機組的改造和小機組脫硝；

如果因環(huán)保煙氣排放要求提高，在SNCR脫硝工藝不能達到排放標準的情況下，還可以進行改造，只要在爐外安裝一套SCR脫硝工藝配合使用，就可以達標chao低排放，有的甚zhi可以近零排放。

干法脫硝工藝包括:選擇性催化還原法(SCR)、非選擇性催化還原法高分子(HNCR)、吸附法、等離子體huo化法等。

煙氣企業(yè)常用的干法脫硝工藝為非選擇性催化還原法高分子(HNCR)。

 干法脫硝HNCR脫硝工藝（高分子爐內脫硝技術）設備原理：

HNCR工藝的整個還原過程都在鍋爐內部進行，脫硝效率高，正常情況下，可達80-90%。并且不需要另外設立反應器；設備占地面積小，施工時間短;HNCR脫硝系統(tǒng)的建設為一次性投資，投資費用低、cao作方便。HNCR脫硝系統(tǒng)的設備占地面積小；施工時間短；HNCR法工藝簡單，易于自動化控制；HNCR法脫硝劑為固體顆粒，脫硝劑易儲存，an全性高；不影響鍋爐熱效率，不增加系統(tǒng)阻力，無需鍋爐改造; HNCR技術不需要對鍋爐燃燒設備和受熱面進行大的改動，不需要改變鍋爐的常規(guī)運行方式，對鍋爐的主要運行參數(shù)影響極小。

安裝高分子爐內干法脫硝工藝的比較多，這種高分子脫硝工藝，是在鍋爐的爐內找一個合適的溫度區(qū)間，溫度為650-1050度之間，技術人員在找好溫區(qū)后打孔，將噴槍伸入爐內固定好，大家不要小看這一個鍋爐找溫區(qū)開孔的工作，公司的安裝技術人員都是在鍋爐脫硝行業(yè)干了很多年經(jīng)，驗豐富的老手，打孔這個問題無需擔心。