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廢氣凈化塔的適用范圍:
電鍍、表面處理、單晶硅酸洗、半導(dǎo)體清洗、電子制造、漆包線、噴涂用廢氣凈化塔
漆噴涂、涂裝生產(chǎn)等行業(yè)及領(lǐng)域。屬于兩相逆流氣體凈化塔填料吸收塔。廢氣從廢氣處理塔的下入口切向地進(jìn)入凈化塔。在風(fēng)扇的動態(tài)作用下,它快速地填充進(jìn)氣段的空間,然后均勻地通過平衡段上升到填料吸收段。在填料表面,氣相中的酸性(或堿性)物質(zhì)與液相中的堿性(或酸性)物質(zhì)發(fā)生反應(yīng),反應(yīng)物(主要是可溶性酸(堿)與吸收劑流入較低的儲罐。未完全吸收的酸性(或堿性)氣體繼續(xù)上升到階段的噴霧。
適用于電鍍生產(chǎn)廢氣凈化塔、表面處理、單晶硅酸洗、半導(dǎo)體、電子制造、漆包線噴漆清潔和涂料生產(chǎn)等行業(yè)和領(lǐng)域。
且有機(jī)廢氣絕大部分是易燃、易爆的化合物。等離子體運行時的拉弧極易引爆VOCs,天津已令社會對其的安全性質(zhì)疑,故該在各地被禁用已日逐增加。三、光催化氧化1、處污原理光催化廢氣處理設(shè)備的是利用特種紫外線波段,在催化劑的作用下,將氧氣催化生成臭氧和自由基及負(fù)氧離子,再將VOCs分子氧化還原的一種處理方式。 作用原理低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài),當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放電電壓時,氣體被擊穿,產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混。放電過程中雖然電子溫度很高,但重粒子溫度很低,整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài),所以稱為低溫等離子體。
OG法先對轉(zhuǎn)爐煤氣進(jìn)行顯熱回收,用冷卻塔將煙氣冷卻到380℃,再用濕法除塵洗滌凈化并冷卻至42℃,然后用PA文丘里洗滌器進(jìn)行二級除塵。(2)干法處理該法是利用高壓靜電除塵器來凈化轉(zhuǎn)爐煤氣中的塵。從煙氣中回收的鐵可作為燒結(jié)廠的原料使用。 結(jié)合實際生產(chǎn)過程,采用了連續(xù)的吸附-脫附-再生操作程序。在甲苯回收工程中,設(shè)計選用了三箱吸附系統(tǒng)。3個吸附器共用一套管路系統(tǒng),運行時可相互切換。含的廢氣經(jīng)過預(yù)處理后依次進(jìn)入3個吸附器,當(dāng)吸附器1吸附飽和后,切換到吸附器2吸附,吸附器2吸附飽和后,再切換到吸附器3吸附;脫附-干燥再生工序也是依次進(jìn)行。 4、本產(chǎn)品為多機(jī)組合式整套設(shè)備,適應(yīng)處理的水質(zhì)范圍較廣。5.設(shè)備采用生物氧化工藝,對水質(zhì)適用性好,水質(zhì),污泥。6、設(shè)計合理、結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積小,操作使用方便。7、污水進(jìn)入主機(jī)后,藥劑則為自動定比例跟蹤投加。
2、精密鑄造廢氣處理措施鑄造廢氣主要為石蠟廢氣、浸氯化銨過程產(chǎn)生的含氨廢氣、模殼焙燒產(chǎn)生的煙氣、中頻爐煙塵、噴漆廢氣,及清砂、切割、打磨和拋光過程產(chǎn)生的粉塵等。項目在焊接和失蠟過程中會產(chǎn)生少量石蠟廢氣,通過加強(qiáng)車間通風(fēng),污染。 以各項氧化劑之性能而言,次便宜,效果亦不錯,故常使用。在溶液中之次系以次氯酸(HOCl)形式存在:NaOCl+H2O→HOCl+NaOH......在pH=7.5,次氯酸鹽溶液之有效氯以50%HOCI和次氯酸根離子(OCl-)存在。在pH=l0,只有0.3%有效氯以HOCl存在;在pH=l1或12,HOCl幾乎解離成無用之次氯酸根離子,因此pH值控制很重要。 等離子體催化劑選用TiO2,其為寬禁帶(Eg=3.2eV)半導(dǎo)體化合物,只有波長較短的太陽光才能被吸收,激發(fā)其活性,所以設(shè)計反應(yīng)裝置的時候需要添加紫外光源。呈游離狀態(tài)的污染物離子極易與O3產(chǎn)生氧化反應(yīng),生成簡單、低害或無害的物質(zhì),如CO2、H2O等,以達(dá)到廢氣凈化處理的目的。 如磷、鉍、、銻、、鉛、錫;高濃度的粉塵;2、設(shè)備選型時,注明廢氣的成分、濃度及出口溫度;3、設(shè)備安裝場所無腐蝕性氣體,并有良好的防雨措施;4、設(shè)備所需電源為:三相交流380V50Hz;催化燃燒適用范圍1、用于?。