伯東 KRI 離子源輔助蒸發沉積鍍鋁膜, 改善鋁膜結構及耐腐蝕性

鋁膜具有電位低, 在基體上附著性好、經濟實惠, 同時鋁膜與鋁合金構建連接的緊固件表面, 防止發生電偶腐蝕破壞鋁合金結構件. 除此之外, 鋁做到耐腐蝕防護膜層時, 無氫脆現象, 不會影響基體的本身性能, 并解決了與鈦合金連接件接觸的電偶腐蝕等優點, 是優良的腐蝕防護材料. 因此, 鋁膜在蒸發沉積鍍膜中廣泛使用。

蒸鍍是在真空狀態下, 將鍍料加熱蒸發或者升華, 使之在工件或基體表面沉積的工廠, 蒸鍍具有簡單便利、操作容易、沉積速率快等優點, 但存在膜基結合力不理想, 膜層不致密的缺點.

為了解決蒸鍍的缺點, 某國內精密儀器鍍膜制造商采用伯東 KRI 離子源進行輔助蒸鍍.

該制造商采用伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380, 同時為了為鍍膜工業提供穩定的合適的真空環境, 伯東工程師為制造商搭配大抽速分子泵組 Hicube 700 Pro, 采用金屬密封, 極限真空度可達1x10-7hpa, 抽速可達 685 L/s, 很好保證成膜質量.

美國 KRI 射頻離子源 RFICP 380 特性:

1. 大面積射頻離子源

2. 提供高密度離子束, 滿足高工藝需求

3. 采用射頻技術產生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長, 更適合時間長的工藝要求

4. 離子束流: >1500 mA

5. 離子動能: 100-1200 V

6. 中和器: LFN 2000

7. 采用自動控制器, 一鍵自動匹配

8. RF Generator 可根據工藝自行選擇離子濃度, EX: 1kW or 2kW

9. 離子源采用模塊化設計, 方便清潔/ 保養/ 維修/ 安裝

10. 柵極材質鉬和石墨, 堅固耐用

11. 通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others

離子源輔助蒸鍍運行原理:

在蒸鍍時, 通過 KRI 離子源的作用, 使Ar原子離化成Ar+, 產生輝光放點現象, 離子在電場中將蒸發出來的Al原子離化成Ar+, 這些等離子體在電場的作用下對基體進行轟擊和鍍膜.

運行結果：

蒸鍍中由于離子輔助技術的注入, 改善了蒸鍍鋁膜的組織, 基膜結合力高、耐腐蝕性更好、提高了合金的微動疲勞抗力

上海伯東是美國考夫曼公司 KRI離子源的國內總代理商, 其中KRI 離子源主要型號有:

KRI 射頻離子源 RFICP 系列： RFICP 380、RFICP 220、RFICP 140 、RFICP 100、 RFICP 40

KRI 考夫曼離子源 Gridded KDC 系列： KDC 160、KDC 100、KDC 75、KDC 40、KDC 10

KRI 霍爾離子源 Gridless eH 系列:eH 3000、eH 2000、eH 1000、eH 400、eH Linear

若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式:

上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw