等離子清洗機真空泵的詳細資料
Harrick Plasma 等離子清洗機真空泵配置：
>1.4 1.4 m3/hr (0.83 ft3/min) 極限壓力在200 mTorr (0.27 mbar)以下
真空泵型號：
經濟型 PDC-VPE (115V); PDC-VPE-2 (230V)
穩定型 PDC-VP (115V ) ; PDC-VP-2 (230V)
工藝氣體為氧氣，請選擇真空泵型號
經濟型 PDC-OPE (115V); PDC-OPE-2 (230V)
穩定型 PDC-OPD (115V); PDC-OPD-2(230V)
對于其他腐蝕性或者反應性氣體，請咨詢 German First-Nano System （HK）Limited
Harrick Plasma 具有悠久歷史的專業光學光譜儀器的設計和制造。自1969開始，Harrick Plasma 技術L先，行業享有盛名。該公司的創始人N. J. Harrick博士，開創了內反射光譜和成為該技術的主要開發者。 $nHarrick Plasma 研發了三十多年前的*臺臺式研究等離子體器件。現在Harrick Plasma 儀器在許多研究實驗室是廣泛應用。
等離子清洗機真空泵
http://www.first-nano.com/SonList-1417828.html
http://www.chem17.com/st326752/erlist_1417828.html
