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不銹鋼亮面管詳細工藝描述
不銹鋼亮面管拋光工藝可以分為粗拋和出光兩部分?，F將該兩部分工藝和方法總結如下：
粗拋
不銹鋼工業管經歷退火酸洗之后，表面為酸白，粗糙度一般都為ra6.4μm以上，進行粗拋的目的就是為了最后的出光，成為亮面粗下基礎。
不銹鋼亮面管粗拋工序分為三個部分：
1、打磨；2、半粗拋；3、粗拋。
一般來說，不銹鋼亮面管進行粗拋的主要設備就是拋頭，因為這個拋頭的粗糙度決定了粗拋的順序。
內孔11mm不銹鋼管內拋光
下面我們來詳細地描述整個不銹鋼亮面管的粗拋程序：
詳細說明如下：
1、 首先是檢查外購來的不銹鋼工業管，看看表面質量是不是有凹坑，薄厚不均，明顯的深劃痕，管子碰缺陷，導致經過多道粗拋之后還無法粗拋完成，所以，來料檢驗，成為粗拋工序最重要的一件工作，只有良好的來料，才能讓本工序正常工作完成，交給下道工序優質的半成品。
如果發現有上述的缺陷，應退回進行來料返修，如果無缺陷，則進入本工序進行粗拋。

內孔11mm精密不銹鋼管拋光
2、 打磨，用80目的拋光輪放在轉動軸上對不銹鋼工業管進行打磨，從而對表面為酸白的不銹鋼工業管進行打磨，這樣就能消除工業管上酸白的地方，逐漸體現出光亮表面。同時也讓工業管生產過程中的表面小凹坑，明顯的小凹痕，拉痕等等缺陷被消除。從而讓打磨的不銹鋼亮面管基本無大劃痕，無碰傷，經過打磨后，不銹鋼亮面管的表面粗糙度可以達到3.2μm。此工序中，操作工一定要保證打磨的表面必須完整，同時要避免還存留酸白。
內孔11mm不銹鋼衛生管拋光
3、 半粗拋，用120目的拋光輪對前面經過打磨工序加工之后的不銹鋼亮面管進行粗糙，半粗拋主要目的就是對打磨工序出現的打磨粗痕，還有未打磨到的細小缺陷，一些明顯的凹坑進行修整，并對已經打磨的不銹鋼亮面管進行進一步的粗拋，對打磨工序出現的印痕要反復拋削，從而使整個工序表面比較平滑，并無明顯拉痕，凹坑。進行半粗拋光工序后，不銹鋼亮面管表面粗糙度應能達到Ra1.6μm。（半粗拋工序不應產生新的劃痕及碰傷，因為越后的工序，越不能對缺陷進行修整。）
4、 粗拋，拋光動作同上一模一樣，用240目的拋光輪對已經半粗拋的不銹鋼亮面管，粗拋共需就是對半粗拋的進行修整，同時盡量消除明顯的拋光，這步工序也會對半粗拋的半成品不銹鋼光亮面管進行一定的細化，從而保證不銹鋼亮面管進一步光亮，工件表面粗糙度應能達到Ra0.8微米。

不銹鋼管廠家:可是不銹鋼管表面加工為什么容易出現波紋?

??產生上述波紋的原因，主要是由于磨床--鋼管--砂輪系統的振動所引起的，或者說是由于砂輪相對于工件的振動而引起的。這種振動包括強迫振動和自激振動。引起振動的具體原因很多，其中主要的有：砂輪不平衡，安裝前沒有經過認真的平衡試驗。因此，在磨削過程中產生強迫振動，引起不銹鋼管表面出現直波形波紋。由于強迫振動的頻率等于激振力的頻率或者是它的倍數。因此，由于這一原因而產生的波紋較深，波距較寬，波的頻率與砂輪的轉速有關。不銹鋼管加工時，鑒別的方法可以在工件的表面上涂一層薄薄的紅油，并調整工作臺的移動速度，使工作臺移動距離在工件旋轉一轉時略等于砂輪寬度的2/3，然后移動砂輪架，使砂輪剛剛接觸紅油(不能有切入)，縱走刀一次后迅速退刀。這時，在工件的表面上可以觀察出“多角形”，并量出波距(即多角形的邊寬)，計算出波的頻率(波頻)。平面磨削時的鑒別方法也與此類似。

??砂輪傳動電機不平衡，也會產生強迫振動而引起直波形波紋(磨外圓時)或橫波紋(磨平面時)，其情況與砂輪不平衡相類似。同樣原因，砂輪傳動皮帶厚薄、長短不一，以及磨床液壓傳動機構中由于油泵工作所造成的輸油管中液體的脈動，也可能出現類似的強迫振動。不過由此而引起的振動情況，要稍稍輕微一些。不銹鋼管表面加工時，鋼管與機床系統在磨削過程中的彈性變形，會增加磨削過程中自激振動的強度，使鋼管加工表面出現直波形波紋。這時，波紋較淺、較密，波頻一般在300個/秒左右，與砂輪的轉速不一致。鋼管與機床系統的剛性愈差，砂輪對工件的摩擦力愈大，自激振動的振幅就愈大，波紋也就愈深。
不銹鋼管廠家:不銹鋼鋼管滲碳氮化加工后為什么會出現變形現象

??不銹鋼鋼管滲碳的方法有固體滲碳、液體滲碳、氣體滲碳，還有碳氮共滲等不同類型，需要與每種滲碳源相適應的設備和熱處理操作方法。滲碳是通過從不銹鋼管表面的氣氛中吸附活性碳原子，這些碳原子再向鋼的內部擴散來進行的。影響滲碳的主要因素是滲碳氣氛的碳勢，滲碳溫度以及滲碳時間。用上式估算的是總滲碳層深度。另外，上式設滲碳表面碳濃度為各滲碳溫度下奧氏體的飽和碳濃度，當滲碳表面的碳濃度低于該溫度下奧氏體的飽和濃度時，由上式求出的滲碳深度值就偏小。不銹鋼鋼管滲碳產生的缺陷，與上述主要因素以及滲碳件的鋼種、成分、滲碳后的淬火方法等有關。

??從不銹鋼鋼管材料組織成分平衡圖可以看出，鐵素體(α相)只能固溶0.1%以下的氮，因此，鋼在氨氣中加熱時就形成鐵的氮化物。在氮化表面形成的這些氮化物飽和層，作顯微組織觀察時，由于它不受所用侵蝕試劑腐蝕，故呈現為白亮層。白亮層容易剝落，所以，氮化后必須用精加工除去，因此可以把白亮層看做伴隨氮化產生的一種缺陷。用氨氣進行氮化，通過分解產生的原子氮被鋼吸附和擴散，再和存在于鋼內的Al、Cr等結合形成細小的化合物，在鐵素體晶粒內引起很大畸變而使之硬化。未參與氮化的氮變成惰性分子態氮從爐中排出。

??圖中所示是混合氣氛與不同溫度下處于平衡的Fe-N相的關系。所以，氨的分解氣和氨氣的混合氣體，即NH3+N2+H2的氮化氣氛，可以獲得具有與氨分壓或者說是氨的分解率相對應的氮化鐵表面的氮化層。圖中所示是不銹鋼鋼管在500℃與550℃氮化24小時的情況下，氨的分解率、氮化量以及表面生成相間的關系。從以上結果可以看出，不在生成白亮層的氮化條件下，就不能獲得充分的氮化效果。二段氮化法在氮化后期用高分解率的氣氛，僅能促進氮在鋼中的擴散，試圖減輕白亮層。但需要注意的是，與此同時氮化鐵容易從晶界上成網狀析出，而成為發生剝落的原因。
拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑，拋光液具有良好的去油污，防銹，清洗和增光性能，并能使金屬制品顯露出真實的金屬光澤。性能穩定、對環境無污染等作用。

??制作步驟依據機械加工原理、半導體材料工程學、物力化學多相反應多相催化理論、表面工程學、半導體化學基礎理論等，對硅單晶片化學機械拋光(CMP)機理、動力學控制過程和影響因素研究標明，化學機械拋光是一個復雜的多相反應，它存在著兩個動力學過程：(1)拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進行氧化還原的動力學過程。這是化學反應的主體。(2)拋光表面反應物脫離硅單晶表面，即解吸過程使未反應的硅單晶重新裸露出來的動力學過程。它是控制拋光速率的另一個重要過程。硅片的化學機械拋光過程是以化學反應為主的機械拋光過程，要獲得質量好的拋光片，必須使拋光過程中的化學腐蝕作用與機械磨削作用達到一種平衡。如果化學腐蝕作用大于機械拋光作用，則拋光片表面產生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機械磨削作用大于化學腐蝕作用，則表面產生高損傷層。

??配方中的MW-6拋光劑是一種復合拋光劑，其成分含有硝酸、鹽酸、苯甲酸、冰乙酸和其他助劑，只需要按配方量150～270mL/L加水溶解即可。配成的拋光液消耗量為6～8平方米，拋光面積/L拋光液。使用配方拋光液的工藝流程如下：除盡油的零件→熱水預熱 (60～70℃)→MW-6拋光→熱水洗(60～70℃)→熱水洗(50～60℃) →中和(2%氨水)→冷水洗→超聲波清洗(30～40℃)→乙醇(95%)脫水→烘干→包裝。