伯東 KRI Gridded 考夫曼離子源成功應用于離子束拋光工藝

伯東公司為 Kaufman & Robinson, Inc (美國考夫曼公司) 大中國區總代理. 美國考夫曼公司Gridded Ion Sources (考夫曼柵極離子源), KDC (直流電源式考夫曼離子源) 已成功被應用于光學鍍膜離子束拋光機 (IBF Optical coating) 及晶體硅片離子束拋光機 (IBF Clrystalline)工藝. 考夫曼公司離子源可變離子的強度及濃度, 控制拋光刻蝕速率更準確使在拋光后的基材上獲得更平坦均勻性高的薄膜表面. 內置型的設計更符合離子源于離子拋光機內部的移動運行.

實際案例一:

1.    基材: 100mm 光學鏡片.

2.    離子源條件: Vb:800V(離子束電壓), Ib:84mA(離子束電流), Va:-160V(離子束加速電壓), Ar gas(氬氣).

3.    離子束拋光前平坦度影像呈現圖          離子束拋光后平坦度影像呈現圖            

實際案例二:

1.    基材: 300mm晶體硅片

2.    離子源條件: Vb:1000V(離子束電壓), Ib:69mA(離子束電流), Va:-200V(離子束加速電壓) Ar gas(氬氣).

3.    離子束拋光前平坦度影像呈現圖          離子束拋光后平坦度影像呈現圖

實際安裝案例一:

KDC10 使用于光學鍍膜離子束拋光機

實際安裝案例二:

KDC40 使用于晶體硅片離子束拋光機

上海伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

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