伯東 KRI霍爾型離子源EH 5500用于3D玻璃鍍膜

3D玻璃輕薄、透明潔凈、抗指紋、防眩光、堅硬、耐刮傷、耐候性佳…等優(yōu)點, 可型塑做出 3D 多形狀外觀具有產(chǎn)品特殊設(shè)計新穎性與質(zhì)感佳, 又可增加弧形邊緣觸控功能帶來出色的觸控手感、無線充電機能, 并能解決天線布置空間不足及增強收訊功能, 使產(chǎn)品更美觀出色, 產(chǎn)品設(shè)計差異化使消費者更能青睞.

3D玻璃的特色符合 3C 產(chǎn)品設(shè)計需求. 3C 產(chǎn)品設(shè)計如智能3D、智能手表、平板計算機、可穿戴式智能產(chǎn)品、儀表板等陸續(xù)出現(xiàn) 3D 產(chǎn)品, 已經(jīng)明確引導(dǎo)3D 曲面玻璃發(fā)展方向.

3D 玻璃鍍膜, 不僅可以使玻璃蓋板、背板更漂亮, 還能起到抗氧化、耐酸堿、抗紫外線的作用. 所以說, 3D玻璃鍍膜在如今“看臉”的時代是十分必要的！然而玻璃鍍膜也絕非一種, 不同的鍍膜起到不同的作用.

為了保證玻璃鍍膜的質(zhì)量, 提高生產(chǎn)率. 經(jīng)過我司推薦采用大尺寸KRI 考夫曼離子源 EH 5500 安裝于生產(chǎn)設(shè)備 2050 mm 蒸鍍機中, 實現(xiàn) LED-DBR 離子輔助鍍膜, 大大提高了鍍膜質(zhì)量和提高生產(chǎn)率. 

KRI 考夫曼離子源客戶案例: 國內(nèi)某知名3D玻璃鍍膜制造商
1. 離子源應(yīng)用: 3D玻璃鍍膜.
2. 系統(tǒng)功能: 2050 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機.
3. 離子源: 采用美國KRI 考夫曼離子源 KRi EH 5500. 離子源 EH 5500 提供的離子束 (不論是離子能量還是離子密度) 均是目前業(yè)界最高等級, 離子源 EH 5500 大尺寸的離子槍本體設(shè)計所產(chǎn)生超廣角的離子束涵蓋面積及高均勻度的離子濃度分布可以涵蓋 2050 mm 尺寸的蒸鍍機中大范圍的載具 (substrate holder), 無論是生產(chǎn)良率或是均勻性都可達到最高生產(chǎn)效能.
4. 離子源功能: 通過 KRI EH 5500 霍爾源實現(xiàn)離子輔助鍍膜 IBAD 及預(yù)清潔 Pre-clean 功能后, 所生產(chǎn)出的3D 玻璃鍍膜無論是環(huán)境脫膜測試, 耐刮測試, 膜層應(yīng)力測試等等… 都優(yōu)于目前一般業(yè)界蒸鍍機所搭配的離子源.

上海伯東美國 KRI 霍爾離子源 EH 5500 優(yōu)點:
1.離子濃度, 高離子能量, 離子束涵蓋面積廣
2.氣體分子離子轉(zhuǎn)化率高, 離子束工作穩(wěn)定
3.鍍膜均勻性佳, 提高鍍膜品質(zhì)
4.模塊化設(shè)計, 保養(yǎng)快速方便
5.增加薄膜附著性, 增加光學(xué)膜后折射率
6.全自動控制設(shè)計, 操作簡易
7.低耗材成本, 安裝簡易

                   EH 5500 離子源本體

                    EH 5500 離子源控制器

上海伯東是美國KRI 考夫曼離子源 Kaufman & Robinson, Inc  中國總代理. 美國KRI 考夫曼公司離子源已廣泛應(yīng)用于離子濺射鍍膜 IBSD. KRI 考夫曼離子源可控制離子的強度及濃度, 使濺射時靶材被轟擊出具有中和性材料分子而獲得高致密, 高質(zhì)量之薄膜. KRI 考夫曼離子源可依客戶濺射工藝條件選擇 RFICP 射頻電源式KRI 考夫曼離子源或是 KDC 直流電原式KRI 考夫曼離子源.

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