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          廢水處理相對較容易的高速光亮鍍錫

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          產品價格: 10/人民幣 
          最后更新: 2019-10-16 09:48:29
          產品產地: 佛山
          發貨地: 佛山 (發貨期:當天內發貨)
          供應數量: 不限
          有效期: 長期有效
          最少起訂: 1
          瀏覽次數: 1309
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        2. 公司基本資料信息
        3.  
          產品詳細說明

          高速光亮純錫

          (一) 特點

           

          StannoPure HSB 高速光亮純錫是一種不含氟硼酸根、低泡沫的純錫工藝。適用于片狀、線狀或連接器的連續生產電鍍。

           

          StannoPure HSB 高速光亮純錫能產生良好均一的結晶、光亮的無鉛純錫鍍層,可焊性

           

          StannoPure HSB 高速光亮純錫專為純錫電鍍而研發的工藝,通常用于電子電器裝置,以取替鉛錫電鍍工藝,及迎合禁用含鉛鍍層的國際要求。

           

          StannoPure HSB 高速光亮純錫與其它光錫工藝相比,晶須產生的機會比較低。

           

          StannoPure HSB 擁有以下優點

           

          操作容易

           

          此工藝能通過簡單分析作維護;產生四價錫較少。

           

          穩定的添加劑

           

          添加劑能用在廣闊的溫度范圍內。

           

          簡單的廢水處理

           

          因為鍍液不含氟硼酸根,所以廢水處理相對較容易;對設備的侵蝕也減少。

           

          (二)鍍液組成及操作條件

           

          建議100升開缸量

          甲基磺酸液 SOLDERPLATE(945 克/升游離甲基磺酸)

          16.0

          21.6

          甲基磺酸錫 SOLDERPLATE (300 克/升 Sn2+)

          15.0

          23.3

          高速光亮純錫 HSB 走位劑

          2.0

          2.0

          高速光亮純錫 HSB 光亮劑

          0.4

          0.4

          純水

          66.6


           

          建議工作濃度

          二價錫

          [g/l]

          45 (30 – 60)

          游離甲基磺酸

          [g/l]

          160 (140 – 220)

          高速光亮純錫 HSB 走位劑

          [ml/l]

          20.0 (15.0 – 25.0)

          高速光亮純錫 HSB 光亮劑

          [ml/l]

          4.0 (3.0 – 6.0)


          工作參數

          溫度

          30 °C (25 – 38 °C)

          電壓

          約 1 – 3 伏

          電流密度

          陰極:

          20 A/dm2 (10 – 50 A/dm2)

          強極:

          2.0 – 5.5 A/dm2

          要點:

          要達到最大的陰極電流密度,錫濃度及酸濃度是主要影響因素

          電流效益

          90 – 100 %

          沉積速度

          10 微米/分鐘(當 20 A/dm2

          要點:


          要達到的陰極電流密度,錫濃度及酸濃度是主要影響因素




          () 配制鍍液

           

           

          在開缸之前,請小心檢查鍍槽及設備,以防泄漏。

           

           

          1. 若鍍槽之前是在類似的甲基磺酸系統下使用,請將所有鍍液(包括所有喉管、過濾裝置及泵)排放干凈;

           

          2.  50-100 毫升/升的甲基磺酸液 SOLDERPLATE 清洗所有鍍槽,喉管及過濾系統,最少 3 小時,浸泡過夜更佳

           

          若鍍槽是新的,或有使用過潤滑劑、活性劑,建議用 50-100 克/升氫氧化

           

          鉀作預洗,再作以后的清洗步驟。

           

          3. 排放所有已清洗的甲基磺酸液 SOLDERPLATE(注意當地的排放規則),并以純水沖洗鍍槽、所有喉管及過濾系統,更換過濾芯;

           

          4. 注入半缸純水;

           

          5. 加入所需份量甲基磺酸液 SOLDERPLATE,并加以攪拌;

           

          6. 待溶液溫度降至 35℃,加入所需份量的甲基磺酸錫 SOLDERPLATE 并加以攪拌;

           

          7. 加入高速光亮純錫 HSB 走位劑,其后再加入高速光亮純錫 HSB 光亮劑;

           

          8. 加入純水至標準水位,開動過濾泵循環,約 15 分鐘;

           

          9. 鍍液已可使用。

           

          (四)設備

          鍍槽

          聚丙烯,聚乙烯,聚二氯乙烯或塑料內層鋼鐵

          攪拌

          陰極移動及鍍液攪拌(高速沉積速度)

          過濾

          連續過濾,無氣體 1-5 微米的聚丙烯過濾芯。建議每小時能過濾整缸鍍液 5-8 次。

          抽氣

          需要。

          加熱/冷卻

          PTFE,鈦,陶瓷。

          陽極

          純錫陽極。若需要時,可用鈦籃裝載純錫陽極,但要保證使用電壓低于 6 伏。鈦籃必須保持常滿,以防止對鈦籃的侵蝕。

          如果陽極電流密度過高,會導致不平均的陽極溶解,形成四價錫的出現。

          陽極袋

          聚丙烯。

           

          五)補充及維護

           10,000 安培小時

          高速光亮純錫 HSB 光亮劑

          2.0 – 4.0

          高速光亮純錫 HSB 走位劑

          1.0 – 2.0

                

          高速光亮純錫 HSB 光亮劑及高速光亮純錫 HSB 走位劑的消耗,取決于應用條件、設備及操作條件。帶出消耗亦會影響消耗量。

           

          游離甲基磺酸只有帶出消耗  建議定期分析

          甲基磺酸錫 SOLDERPLATE

          300 克/升 Sn2+60 克/升游離

          甲基磺酸,密度 1.54

          每補充 3.33 毫升/升甲基磺酸錫 SOLDERPL

          錫濃度 1 克/升

          游離甲基磺酸 0.2 克/升。

          甲基磺酸液 SOLDERPLATE

          945 克/升游離甲基磺酸,70%

          密度 1.35

          每補充 1.06 毫升/升甲基磺酸液 SOLDERPLATE,能增加游離甲基磺酸 1 克/升。

           

          注意:補充甲基磺酸錫 SOLDERPLATE 會增加游離甲基磺酸


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