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Honeywell 霍尼韋爾氣體探測器SPXCDUSNNX氫氣檢測器探頭
與CPU等芯片相比，DRAM內存在20nm節點之后也放緩了速度，線寬減少越來越困難，40nm工藝的DRAM內存芯片線寬減少約為5-10nm，20nm工藝的線寬減少就只有2-3nm了，更先進的工藝減少線寬就更困難了。能量功耗，帶寬，延遲和制程升級成為了DRAM業者關注的重要問題，這也讓廠商舉步維艱。
以三星和SK海力士為例，據臺灣媒體Digitimes在今年五月的報道，韓國兩大存儲巨頭的18nm制程雙雙出現了良率問題，并遭到數據中心客戶退貨，且在改善前將暫緩出貨，受到影響的業者包括亞馬遜及阿里巴巴、騰訊、華為等大廠，臺灣地區業者也陸續于近1～2周內獲得訊息。報道進一步指出，三星18nm制程并非第一次傳出質量疑慮，先前已修改過2次設計，原本業界以為第3次改良將可安全過關，不過高階服務器產品應用于數據中心的要求較為嚴格，環境測試也較為嚴峻，在DRAM制程持續微縮下，導致符合規格的產品良率較難穩定控制。
SPXCDUSNFX UL approved SP XCD Flammable CAT 0-100%LEL (20,0 to 100.0%LEL, 10%LEL) with SS316, 3/4"NPT Entry
SPXCDUSNRX UL approved SP XCD CH4(Methane) IR 0-100%LEL (20,0 to 100.0%LEL, 10%LEL) with SS316, 3/4"NPT Entry
SPXCDUSNPX UL approved SP XCD C3H8(Propane) IR 0-100%LEL (20,0 to 100.0%LEL, 10%LEL) with SS316, 3/4"NPT Entry
SPXCDUSNO1 UL approved SP XCD Oxygen 25.0%/Vol with SS316, 3/4"NPT Entry
SPXCDUSNHX UL approved SP XCD Hydrogen Sulfide 0-50ppm (10.0 to 100.0ppm, 1ppm) with SS316, 3/4"NPT Entry
SPXCDUSNCX UL approved SP XCD Carbon Monoxide 0-300ppm (100 to 1000ppm, 100ppm) with SS316, 3/4"NPT Entry
SPXCDUSNG1 UL approved SP XCD Hydrogen 0-1000ppm with SS316, 3/4"NPT Entry
SPXCDUSNNX UL approved SP XCD Nitrogen Dioxide 0-50ppm with SS316, 3/4"NPT Entry
SPXCDUSNB1 UL approved SP XCD Carbon Dioxide IR 0-2%VOL with SS316, 3/4"NPT Entry
SPXCDUSNB2 UL approved SP XCD Carbon Dioxide IR 0-5%VOL with SS316, 3/4"NPT Entry
上海宛暢實業有限公司是一家自動化設備及工業零部件的專業供應商.公司成立于2012年,專注于為石油,化工,電力,鋼鐵,制,環保等領域終端用戶提供工程配套自動化設備及工控備件.
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主營：Honeywell霍尼韋爾氣體探測，Micro Motion艾默生高準質量流量計，羅斯蒙特變送器，霍尼韋爾控制系統與集成,燃燒控制產品,環境自控,閥門執行器、開關等。
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