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Honeywell 霍尼韋爾氣體探測器XNX-AMAV-FHNNN氯化氫探測器
硅與含有氧化物質的氣體,例如水汽和氧氣在高溫下進行化學反應,而在硅片表面產生一層致密的二氧化硅薄膜,這是硅平面技術中一項重要的工藝。氧化爐的主要功能是為硅等半導體材料進行氧化處理,提供要求的氧化氛圍,實現半導體預期設計的氧化處理過程,是半導體加工過程的不可缺少的一個環節。
4、磁控濺射臺
磁控濺射是物理氣相沉積的一種,一般的濺射法可被用于制備半導體等材料,且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點。在硅晶圓生產過程中,通過二極濺射中一個平行于靶表面的封閉磁場,和靶表面上形成的正交電磁場,把二次電子束縛在靶表面特定區域,實現高離子密度和高能量的電離,把靶原子或分子高速率濺射沉積在基片上形成薄膜。
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主營:Honeywell霍尼韋爾氣體探測,Micro Motion艾默生高準質量流量計,羅斯蒙特變送器,霍尼韋爾控制系統與集成,燃燒控制產品,環境自控,閥門執行器、開關等。
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