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Honeywell 霍尼韋爾氣體探測器XNX-AMAV-MHNNN二氧化氮傳感器
制作一顆硅晶圓需要的半導體設備大致有十個,它們分別是單晶爐、氣相外延爐、氧化爐、磁控濺射臺、化學機械拋光機、光刻機、離子注入機、引線鍵合機、晶圓劃片機、晶圓減薄機,其實光刻機只是九牛一毛。
1、單晶爐
單晶爐是一種在惰性氣體(氮氣、氦氣為主)環(huán)境中,用石墨加熱器將多晶硅等多晶材料熔化,用直拉法生長無錯位單晶硅的設備。在實際生產(chǎn)單晶硅過程中,它扮演著控制硅晶體的溫度和質(zhì)量的關鍵作用。
由于單晶直徑在生長過程中可受到溫度、提拉速度與轉速、坩堝跟蹤速度、保護氣體流速等因素影響,其中生產(chǎn)的溫度主要決定能否成晶,而速度將直接影響到晶體的內(nèi)在質(zhì)量,而這種影響卻只能在單晶拉出后通過檢測才能獲知,單晶爐主要控制的方面包括晶體直徑、硅功率控制、泄漏率和氬氣質(zhì)量等
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主營:Honeywell霍尼韋爾氣體探測,Micro Motion艾默生高準質(zhì)量流量計,羅斯蒙特變送器,霍尼韋爾控制系統(tǒng)與集成,燃燒控制產(chǎn)品,環(huán)境自控,閥門執(zhí)行器、開關等。
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