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地埋儲罐廠涂裝刺鼻廢氣異味吸附系統(tǒng)15720490002 王經(jīng)理
化工廠油罐呼吸閥廢氣凈化裝置，低溫等離子廢氣凈化器是采用獨(dú)特的吸附-分解-碳化工藝技術(shù)設(shè)計，采用標(biāo)準(zhǔn)模塊設(shè)計等優(yōu)點(diǎn)，是一種干法廢氣處理設(shè)備，它改變了使用活性炭材料的工藝技術(shù)，無需專人負(fù)責(zé)，不產(chǎn)生二次污染，更換及維護(hù)保養(yǎng)方便（可在設(shè)備正常運(yùn)行情況下更換維護(hù)操作）。
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低溫等離子凈化器是利用等離子體，以每秒800萬次至5000萬次的速度反復(fù)轟擊異味氣體的分子，去激活、電離、裂解廢氣中的各種成份，從而發(fā)生氧化等一系列復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)，再經(jīng)過液體吸收單元、水霧過濾網(wǎng)、等離子體單元、催化單元等多級凈化，將硫氧化物、氮氧化物等氣態(tài)污染物轉(zhuǎn)化為潔凈的空氣釋放至大自然。儲罐生產(chǎn)廢氣處理方案 涂裝有機(jī)廢氣收集凈化裝置 儲罐防腐廢氣吸附系統(tǒng)
等離子原理概述：等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下可以以第四中狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。這類物質(zhì)所處的狀態(tài)稱為等離子體狀態(tài)，又稱為物質(zhì)的第四態(tài)。等離子體中存在下列物質(zhì)：處于高速運(yùn)動狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)（自由基）；離子化的原子、分子；分子解離反應(yīng)過程中生成的紫外線；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。
等離子清洗/刻蝕技術(shù)是等離子體特殊性質(zhì)的具體應(yīng)用。等離子清洗/刻蝕機(jī)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個電極形成電場，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動距離也愈來愈長，受電場作用，它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵，在任何暴露的表面引起化學(xué)反應(yīng)。
低溫等離子廢氣凈化器凈化機(jī)理：
采用脈沖高壓高頻等離子體電源和齒板放電裝置，使其產(chǎn)生高強(qiáng)度、高濃度、高電能的活性自由基，在毫秒及的時間內(nèi)，瞬間對有害廢氣分子進(jìn)行氧化還原反應(yīng)，將廢氣中的大部分污染降解成二氧人碳和水易處理的物質(zhì)。
利用催化氧化劑的強(qiáng)氧化性和高吸附性，持續(xù)地對等離子體未處理盡的污染物和生成的物質(zhì)進(jìn)行催化氧化反應(yīng)，使有害廢氣經(jīng)多級凈化后終達(dá)標(biāo)排放。
新穎的結(jié)構(gòu)設(shè)計將低溫等離子體的發(fā)生裝置和催化氧化裝置有機(jī)地結(jié)合在同一凈化設(shè)備內(nèi)，**限度地發(fā)揮了復(fù)合凈化地效能，使之滿足占地小，重量輕，能耗少，效率高地設(shè)計要求。地埋儲罐廠涂裝刺鼻廢氣異味吸附系統(tǒng)
