GMD2000/4高新精細氧化鎂納米研磨分散機

一、設備供應：

高新精細氧化鎂納米研磨分散機,納米醫(yī)用級氧化鎂乳化機,氧化鎂納米研磨分散機,氧化鎂納米分散均質(zhì)設備

二、應用領域：

隨著產(chǎn)業(yè)化升級及高新技術功能材料市場的需求和發(fā)展，研發(fā)生產(chǎn)出一系列高新精細氧化鎂產(chǎn)品，主要用于高級潤滑油、高級鞣革提堿級、食品級、醫(yī)藥級、硅鋼級、高級電磁級、高純氧化鎂等近十個品種組成。

三、設備介說明：

SGN德國納米醫(yī)用級氧化鎂研磨分散機在分散氧化鎂時通過14000rpm超高的轉(zhuǎn)速形成的超強剪切力使物料在0.2-0.3mm極細的定轉(zhuǎn)子間隙中形成每分鐘數(shù)以 萬次的撞擊、破碎、撕裂，將原本抱團的納米級氧化鎂進一步的破碎，打開團塊形成納米級顆粒狀，為防止被打碎的納米級氧化鎂顆粒再次抱團，我們在研 磨后又加了一級分散均質(zhì)盤，對物料進行徹底的分散，阻止物料再進行二次抱團。氧化鎂分散的越細越均一，對于后期做應用性能就越好！

四、影響納米材料分散要素：

1、分散介質(zhì)

（1）根據(jù)粘度不同，分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中，如水和有機溶劑，納米材料易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等，高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。

2、分散劑

（1）分散劑的選擇，與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關。

（2）分散劑的用量，與納米材料比表面積和共價鍵修飾的功能基團有關。

（3）水性介質(zhì)中，推薦使用TNWDIS。強極性有機溶劑中，如醇、DMF、NMP， 推薦使用TNADIS。

3、分散設備

上海SGN（思峻）機械設備有限公司專門應對納米材料分散開發(fā)的高剪切三級分散機GMD2000系列適合大規(guī)模地分散納米氧化鋁，納米氧化鋅，納米氧化鈰，納米氧化鐵，納米氧化鉍，納料ATO合金等產(chǎn)品。納米金屬粉體、碳納米管、高純Al2O3、高純納米TiO2系列粉體、超活性納米TiO2催化劑、納米TiO2液體、納米TiO2銀抗菌劑、納米高純ZrO2、超細高純ZrO2、納米涂層材料、納米載銀抗菌粉、納米SiO2、納米ZnO、光觸媒、納米三防整理劑等系列粉體、液體、制劑在中、低粘度介質(zhì)里的分散。

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高新精細氧化鎂納米研磨分散機是高效、快速、均勻地將一個相或多個相固體進入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程的設備的設備。

當其中一種或者多種材料的細度達到微米數(shù)量級時，甚至納米級時，體系可被認為均質(zhì)。當外部能量輸入時，兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能，使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液。高剪切均質(zhì)機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細的分散均質(zhì)，經(jīng)過高頻管線式高剪切分散機的循環(huán)往復，最終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。

五、設備參數(shù)：

高新精細氧化鎂納米研磨分散機信息來源：www.sgnprocess.cn