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| 產(chǎn)品參數(shù) | |||
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| 產(chǎn)品特性 | 加工精度高 | ||
| 加工類型 | 定制加工 | ||
| 工件材質(zhì) | 不銹鋼、鋁、銅、鉬、鎳等 | ||
| 加工產(chǎn)品范圍 | 金屬MASK、金屬遮罩 | ||
| 打樣周期 | 1-3天 | ||
| 加工周期 | 4-7天 | ||
| 年最大加工能力 | 999999 | ||
| 年剩余加工能力 | 888888 | ||
| 產(chǎn)品材質(zhì) | 不銹鋼、銅、鋁、鎳、鉬等 | ||
| 加工精度 | ±20μm | ||
| 加工厚度 | 0.1-2.5mm | ||
| 應(yīng)用范圍 | 鍍膜、光刻、科研等 | ||
| 加工地址 | 北京、天津 | ||
| 服務(wù)范圍 | 全國 | ||
| 加工優(yōu)勢 | 邊緣光滑無毛刺 | ||
| 型號 | CN230211930 | ||
華諾激光專業(yè)定做掩膜版 ?mask 金屬掩模板 不銹鋼掩膜版 ，主要適合于高校、科研所、高科技公司的實驗室使用，也適合于工廠批量生產(chǎn)，掩模板可以應(yīng)用于電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)，磁控濺射等真空鍍膜設(shè)備中，用來制備OTFT、OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池，光電探測器，場效應(yīng)晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。由于都是定制的產(chǎn)品，具體價格需要發(fā)圖紙確認后，才能正式報價。
光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
不銹鋼掩模板是以不銹鋼材料為基板生產(chǎn)的掩模板，此掩模板的特是平整度好、精度高、金屬硬度高可以反復(fù)使用，適用于蒸鍍線路、電極、芯片層等。受高校研發(fā)部門、科研所喜愛。
芯片掩模板用于芯片線路蒸鍍使用，優(yōu)質(zhì)的材料再結(jié)合本公司多年生產(chǎn)經(jīng)驗，制造的掩模板平整度高、精度高，利于掩模圖像的轉(zhuǎn)移，適合芯片生產(chǎn)廠家和高校實驗室。
掩膜版的功能類似于傳統(tǒng)照相機的底片。制造商通常根據(jù)客戶所需要的圖形，用光刻機在原材料上光刻出 相應(yīng)的圖形，將不需要的金屬層和膠層洗去，即得到掩膜版。掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微細光掩膜圖形的感光空白板。通過光刻制版工藝，將微米級和納米級的精細圖案刻制于基板上制作成掩膜版。掩膜版的作 用主要體現(xiàn)為利用已設(shè)計好的圖案，通過透光與非透光方式進行圖像（電路圖形）復(fù)制，從而實現(xiàn)批量生產(chǎn)。
