硅鋁靶材等離子噴涂設備噴涂生產(chǎn)線制粉系統(tǒng)鉻靶鈦靶噴涂加工

設備簡介：

耙材噴涂生產(chǎn)線 及 制粉系統(tǒng)
等離子噴靶材鉻靶、鈦靶、硅鋁靶設備
供應生產(chǎn)線--鍍膜靶材噴涂及先進的制造設備技術
生產(chǎn)線---鍍膜靶材噴涂及制造設備技術特點：
應用于玻璃鍍膜（建筑玻璃和汽車玻璃）工業(yè)
產(chǎn)品遠銷東南亞等地與廣大客戶建立了良好的合作關系。優(yōu)良的產(chǎn)品質(zhì)量和及時的服務為企業(yè)贏得了良好的口碑。目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，較之較早點的蒸發(fā)鍍膜方式，其很多方面的優(yōu)勢相當明顯。作為一項已經(jīng)發(fā)展的較為成熟的技術，磁控濺射已經(jīng)被應用于許多領域。

磁控濺射原理：在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。磁控濺射一般分為二種：支流濺射和射頻濺射，其中支流濺射設備原理簡單，在濺射金屬時，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導電材料外，也可濺射非導電的材料，同時還司進行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻
生產(chǎn)線---鍍膜靶材噴涂及制造設備技術構成：
采用等離子噴涂 （提供 SX~R全自動噴砂設備、SX-80全自動噴涂設備、系列配置靶材噴涂硅鋁粉制設備及工藝、噴涂房配置設計等先進方案）

噴涂房 （隔音標準化、環(huán)保生態(tài)化、人性化、產(chǎn)量化高）