EDI超純水設備

二、EDI進水條件：

水源:反滲透RD產水，電導率≤20μ.s/cm

PH值5℃-38℃

進水壓力0.2-0.6mpa

硬度:小于0.5ppm

三、應用場合：

1、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

2、超純材料和超純化學試劑光導纖維、光盤

3、汽車、家電表面電泳漆清洗用水

4、精密產品實驗室和中試車間

四、水質標準：

1、根據客戶要求可達到以下標準:

2、符合美國ASTM標準，電子部超純水水質標準（18MQ-CM, 15MQ.CM, 2MQ-CM和0. 5MQ-CM，四級)

五、工藝流程：

預處理一一雙級反滲透一一EDI一一拋光一一終端后處理