lpcvd氣相沉積設備的供貨商

產(chǎn)品價格：	120000/人民幣
最后更新：	2015-04-25 10:22:07
產(chǎn)品產(chǎn)地：	青島
發(fā)貨地：	青島 (發(fā)貨期：當天內發(fā)貨)
供應數(shù)量：	不限
有效期：	長期有效
最少起訂：	1
瀏覽次數(shù)：	72

公司基本資料信息

青島福潤德微電子設備有限公司
岳曉茜小姐業(yè)務員
會員[試用會員產(chǎn)品]
郵件896337158@qq.com
手機15314229122
電話
傳真
地址青島市城陽區(qū)北萬工業(yè)園6號

產(chǎn)品詳細說明

LPCVD是用加熱的方式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應并淀積形成穩(wěn)定固體薄膜。由于工作壓力低.氣體分子的平均自由程和擴散系數(shù)大，故可采用密集裝片方式來提高生產(chǎn)率，并在襯底表面獲得均勻性良好的薄膜淀積層。LPCVD 用于淀積Poly-Si、Si3N4、SiO2、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜。廣泛應用于半導體集成電路、電力、電子、光電子及MEMS等行業(yè)的生產(chǎn)工藝中。

■ 主要技術指標

◆ 適用硅片尺寸：4~6 "                                 ◆ 工作溫度范圍：350~1000℃

◆ 恒溫長度及精度：760mm±1℃                         ◆ 溫度梯度：0~30℃可調

◆ 系統(tǒng)極限真空度：0.8 Pa                              ◆ 工作壓力范圍：30Pa~133Pa可調

◆ 淀積膜種類：Si3N4 片內＜±3% 片間＜±3% 批間＜±4%

◆ 淀積膜均勻性：Poiy-Si 片內＜±3% 片間＜±3% 批間＜±4%

◆ 淀積膜均勻性：SiO2 片內＜±3%

在線詢盤/留言 請仔細填寫準確及時的聯(lián)系到你!

您的姓名：	您的姓名沒有寫*	預計需求數(shù)量：	* 請輸入整數(shù) 請?zhí)顚憯?shù)量
聯(lián)系手機：	*請?zhí)顚懩愕氖謾C號碼	移動電話或傳真：
電子郵件：	*郵箱格式不正確請?zhí)顚懩愕碾娮余]件	所在單位：
咨詢內容：	我想了解：《lpcvd氣相沉積設備的供貨商》的詳細信息.請商家盡快與我聯(lián)系。 * 請?zhí)钕嚓P內容

更多..本企業(yè)其它產(chǎn)品